F thin filmとは 意味・読み方・使い方

Lastly, the louver 20a is divided to the individual thin-film magnetic hand 10 (f).例文帳に追加

最終的にそのローバー２０ａを個々の薄膜磁気ヘッド１０に分割する(ｆ)。 - 特許庁

In the thin-film forming apparatus, the sheet film F on which a thin film is formed on a thin-film formation surface is clamped by a pair of clamping sections comprising an upper clamping section UH and a lower clamping section DH.例文帳に追加

薄膜が薄膜形成面に形成されたシートフィルムＦが上側挟持部ＵＨと下側挟持部ＤＨからなる一対の挟持部により挟持される。 - 特許庁

A mass-adding resist film 19 for adding a mass is formed on a counter region E1 of a piezoelectric thin film resonator 1 contained in a wafer W, so that the resonance frequency F_R of the piezoelectric thin film resonator 1, being initially surpassing a target frequency F_T, comes to be the target frequency F_T or lower.例文帳に追加

ウエハＷに含まれる圧電薄膜共振子１の対向領域Ｅ１の上に、質量を付加する質量付加膜となるレジスト膜１９を形成し、当初は目標周波数Ｆ_Tを上回っていた圧電薄膜共振子１の共振周波数Ｆ_Rを、目標周波数Ｆ_T以下に低下させる。 - 特許庁

The thin film transistor has a semiconductor thin film PSI and a pair of gate electrodes F-GATE and S-GATE for clamping the semiconductor thin film PSI from above and below through insulating films 1GOX and 2GOX.例文帳に追加

薄膜トランジスタは、半導体薄膜ＰＳＩと、絶縁膜１ＧＯＸ，２ＧＯＸを介して半導体薄膜ＰＳＩを上下から挟む一対のゲート電極Ｆ−ＧＡＴＥ、Ｓ−ＧＡＴＥとを有する。 - 特許庁

Since a sheet film F is released from the cooled adhered material M after the adhered material M is cooled (cooling step) before the sheet film F is released from the adhered material M, the releasing process can be performed while the state that the adhesiveness of the sheet film F to the thin film is lowered is maintained as it is.例文帳に追加

密着物ＭからのシートフィルムＦの剥離前に密着物Ｍを冷却した（冷却工程）後、その冷却された密着物ＭからシートフィルムＦを剥離しているので、シートフィルムＦと薄膜との密着性が低下した状態のまま剥離処理を実行することができる。 - 特許庁

A coating liquid P containing a polysilazane material is coated on a surface of a sheet film F and a polysilazane thin film R is obtained by causing a solvent to vaporize.例文帳に追加

ポリシラザン材料を含む塗布液ＰをシートフィルムＦの表面に塗布し、溶剤を揮発させることでポリシラザン薄膜Ｒを得る。 - 特許庁

Therefore, the thin film 21 having the excellent flatness can be obtained by properly releasing the sheet film F from the adhered material M.例文帳に追加

したがって、シートフィルムＦを密着物Ｍから良好に剥離して優れた平坦性を有する薄膜１２１を得ることができる。 - 特許庁

The process for forming a thin film pattern comprises a step for forming a liquid repellent film F on a substrate P, and a step for placing a functional liquid L in a region A sectioned by the liquid repellent film F.例文帳に追加

基板Ｐ上に撥液性膜Ｆを形成する工程と、撥液性膜Ｆによって区画された領域Ａに機能液Ｌを配置する工程とを有する。 - 特許庁