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主な意味FS法

JST科学技術用語日英対訳辞書での「F-S process」の意味

F‐S process



「F-S process」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 12



例文

The apparatus comprises an image carrier F, a developing means G and a transfer means H, a fixing means I, a guide plate 24 having a plurality of ventilation holes 16c, an exhaust duct 18 having an opening 18a, and the process cartridge N for housing at least the image carrier F and attachable/detachable to the body case S.例文帳に追加

本発明は、像担持体F 、現像手段G と転写手段H 、定着手段I 、複数の通気口16c を有するガイド板24、開口18a を有する排気ダクト18、少なくとも像担持体F を収容して前記本体ケースS に着脱可能なプロセスカートリッジN を備えている。 - 特許庁

In the plurality of hot-forgings, the hot-forging at the last process is performed while controlling the working temperature of the based part S of a flange 10 for fitting the wheel, an introduced von-Mises strain quantity and a hot-forging parameter P_F.例文帳に追加

複数工程の熱間鍛造のうち最終工程の熱間鍛造は、車輪取り付け用フランジ10の付け根部分Sの加工温度、導入されるvon Mises歪の量、熱間鍛造パラメータP_F を制御しつつ行う。 - 特許庁

In the second discharge process, the uncontaminated liquid crystal material F newly supplied (replenished) to the discharge head is arranged to each of the arranging region S and the contaminated liquid crystal material F arranged at the first time is diluted by the uncontaminated liquid crystal material F arranged at the second time.例文帳に追加

2回目の吐出行程では、各配置領域Sは、吐出ヘッドに新たに供給(補給)された汚染されてない液晶材料Fを配置して、1回目に配置された汚染された液晶材料Fを、2回目に配置される汚染されてない液晶材料Fによって希釈化する。 - 特許庁

When a liquid crystal material F is arranged to each of the arranging region S of one mother substrate MA, a process for discharging liquid droplets to each of the arranging region S is performed twice.例文帳に追加

1つのマザー基板MAの各配置領域Sに、液晶材料Fを配置するとき、各配置領域Sに液滴を吐出する工程を2回行った。 - 特許庁

The exhaust gas flowing in the reflux pipe 330 is cooled down by the collection of the exhaust gas heat, but it is heated by heat exchange with the inner cylinder part outer wall and the S/C catalyst outer wall in the process of moving toward a U/F catalyst 225 in the reflux space.例文帳に追加

還流管330を流れる排気はこの排気熱の回収により冷却されるが、還流空間をU/F触媒225に向かう過程で内筒部外壁及びS/C触媒外壁との熱交換により昇温される。 - 特許庁

In the first discharge process, the liquid crystal material F stagnated and contaminated in the discharge head during standby is equally dispersed to each of the arranging region S.例文帳に追加

1回目の吐出行程で、待機中に吐出ヘッド内を停留していて汚染された液晶材料Fは、各配置領域Sに均等に分散させる。 - 特許庁

例文

The shading correction process includes classifying a shading correction plate 28 into small areas of F block and S block and detecting a valid area from a plurality of classified small areas for each block.例文帳に追加

シェーディング補正板28のFブロックとSブロックの小領域に分類し、分類した複数の小領域から、各ブロック毎に有効領域を検知する。 - 特許庁

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日英・英日専門用語辞書での「F-S process」の意味

FS process

クロスランゲージ 37分野専門語辞書での「F-S process」の意味

F-S process


FS process

「F-S process」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 12



例文

In a coating/developing system 10, a space NS of courtyard which is surrounded by a cassette station (C/S) 14 and the process line A of a going route, and an interface station (I/F) 18 and the process line B of a returning route is formed to extend straight in the X direction.例文帳に追加

この塗布現像処理システム10においては、カセットステーション(C/S)14と往路のプロセスラインAとインタフェースステーション(I/F)18と復路のプロセスラインBとに囲まれてX方向にまっすぐ延びる中庭のスペースNSが形成される。 - 特許庁

Then, the supply of warmed sludge S is stopped and while a warmed fluid F being supplied to the fluid chamber 2D by pressure as to keep the inner pressure of the fluid chamber 2D at a prescribed pressure, the warmed liquid in the fluid chamber 2D is discharged to carry out the pressing process by the diaphragm by the inner pressure of the fluid chamber 2D.例文帳に追加

次に、加温スラッジSの供給を停止し、加温流体Fを流体室2D内へ加圧供給するとともに、流体室2D内の内圧を所定圧に維持しつつ流体室2D内の加温流体を排出させて、その流体室2Dの内圧によりダイアフラムによる圧搾を行う。 - 特許庁

This method for capturing particles into a liquid droplet includes a process of discharging a first liquid droplet D1 composed of a first liquid S from a nozzle 12 by an inkjet technique; and a process of passing the first liquid droplet D1 through a liquid membrane F composed of a second liquid mixed with particles C to make the first droplet into a second liquid droplet D2 in which the particles C are captured into the first liquid droplet D1.例文帳に追加

第一液体Sからなる第一液滴D1をインクジェット法によりノズル12から吐出する工程と、第一液滴D1を粒子Cが混入されている第二液体からなる液膜Fに通過させて、第一液滴中D1に粒子Cを取り込まれた第二液滴D2にする工程と、を含むことを特徴とする液滴中に粒子を取り込む方法を提供する。 - 特許庁

A method of forming a multilayer conductive film comprising this polysilicon film 108 comprises a process, wherein the surface of the film 108 is etched back using etching gas containing C and S components and an F component to remove a recessed region generated in the film 108, and a process, wherein a conductive film having a resistance lower relatively than that of the film 108 is formed on the film 108.例文帳に追加

本発明のポリシリコン膜108を含む多層導電膜の形成方法は、C、S、そしてF成分を含むエッチングガスを使用してポリシリコン膜108の表面をエッチバックして除去する工程と、ポリシリコン膜上にポリシリコン膜108より抵抗が相対的に小さい導電膜形成する工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

例文

The parties may agree on the basic terms and conditions including the rate of royalties of a compulsory license. In the absence of agreement between the parties, the Director shall fix the terms and conditions including the rate of royalties of the compulsory license subject to the following conditions: (a) The scope and duration of such license shall be limited to the purpose for which it was authorized; (b) The license shall be non-exclusive; (c) The license shall be non-assignable, except with the part of the enterprise or business with which the invention is being exploited; (d) Use of the subject matter of the license shall be devoted predominantly for the supply of the Philippine market: Provided, that this limitation shall not apply where the grant of the license is based on the ground that the patentee’s manner of exploiting the patent is determined by judicial or administrative process to be anti-competitive. (e) The license may be terminated upon proper showing that circumstances which led to its grant have ceased to exist and are unlikely to recur: Provided, that adequate protection shall be afforded to the legitimate interest of the licensee; (f) The patentee shall be paid adequate remuneration taking into account the economic value of the grant or authorization, except that in cases where the license was granted to remedy a practice which was determined after judicial or administrative process, to be anti-competitive, the need to correct the anti-competitive practice may be taken into account in fixing the amount of remuneration.例文帳に追加

当事者は,強制ライセンスのロイヤルティ料率を含む基本的条件について合意することができる。当事者間の合意がない場合は,局長が,次の条件に従って,強制ライセンスのロイヤルティ料率を含む基本的条件を定める。 (a)強制ライセンスの範囲及び期間は,許可された目的に限定される。 (b)強制ライセンスは,非排他的なものとする。 (c)強制ライセンスは,当該発明を実施している企業又は事業の一部とともにする場合を除き,譲渡することができない。 (d)強制ライセンスの対象の実施は,主としてフィリピン市場への供給のためにされなければならない。ただし,この制限は,当該ライセンスの付与が,司法上又は行政上の手続によって特許権者による当該特許の実施の態様が反競争的である旨が決定されたことに基づく場合は,適用しない。 (e)強制ライセンスは,その付与をもたらした状況が存在しなくなり,かつ,その状況が再発しそうにないことが適切に示されたときは,取り消すことができる。ただし,実施権者の正当な利益に対して適切な保護を与えるものとする。 (f) 特許権者は,付与又は許諾の経済的価値を考慮に入れて,適正な報酬を受ける。ただし,強制ライセンスが,司法上又は行政上の手続の結果反競争的と決定された行為を是正するために許諾された場合は,報酬の額の決定に当たり,反競争的な行為を是正する必要性を考慮に入れることができる。 - 特許庁

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