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Forbidden (band)とは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 禁止帯
「Forbidden (band)」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 74件
The second semiconductor layer 4 has a forbidden band width equal to or larger than the forbidden band width of the first semiconductor layer 3.例文帳に追加
第2半導体層4は、第1半導体層3の禁制帯幅以上の禁制帯幅を有する。 - 特許庁
To provide a resonance filter in which suppression of a forbidden wavelength, an FSR, a forbidden wavelength width and a forbidden band can be adjusted, and which has a short optical path length and is inexpensively manufactured.例文帳に追加
禁止波長、FSR、禁止波長幅、禁止帯の抑圧が調整可能であり、光路長が短く、かつ安価に作成することが可能な共振フィルタを提供すること。 - 特許庁
While a flat band voltage for flattening both energy bands is applied between the n-type semiconductor layer and p-type semiconductor, the forbidden band of the n-type semiconductor layer and forbidden band of the p-type semiconductor layer are partially overlapped.例文帳に追加
n型半導体層とp型半導体層との間に、両者のエネルギバンドがフラットになるフラットバンド電圧を印加した状態で、n型半導体層の禁制帯とp型半導体層の禁制帯とが部分的に重なる。 - 特許庁
METHOD FOR MEASURING LEVEL IN FORBIDDEN BAND BY TWO- WAVELENGTH EXCITATION PHOTO-LUMINESCENCE AND DEVICE THEREFOR例文帳に追加
2波長励起フォトルミネッセンスによる禁制帯内準位の測定方法及びその装置 - 特許庁
The first discharge electrode is equipped with an electron emission layer made of a wide forbidden band-width semiconductor substrate 1.例文帳に追加
広禁制帯幅半導体基板1からなる電子放出層を備える第1放電電極である。 - 特許庁
Contact films 23a, 24a are formed on the surface of the wide forbidden band semiconductor layers 1a.例文帳に追加
広禁制帯幅半導体層1aの表面には、コンタクト膜23a,24aが形成されている。 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR MEASURING LEVEL IN FORBIDDEN BAND BY PHOTOLUMINESCENCE WITH ADDED THERMAL EXCITATION例文帳に追加
熱励起を加えたフォトルミネッセンスによる禁制帯内準位の測定方法およびその測定装置 - 特許庁
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ウィキペディア英語版での「Forbidden (band)」の意味 |
Forbidden (band)
出典:『Wikipedia』 (2011/06/06 03:28 UTC 版)
「Forbidden (band)」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 74件
Light in a multiplexed/demultiplexed wavelength band which is not included in a transmitting wavelength band of the trunk waveguide 24 in the forbidden band area 212 and is included in a transmitting wavelength band of the trunk waveguide 24 in the forbidden band area 211 is reflected on the boundary 23 and demultiplexed from the trunk waveguide 24 to the branch waveguide 25.例文帳に追加
禁制帯領域212内の幹導波路24の透過波長帯には含まれず禁制帯領域211内の幹導波路24の透過波長帯には含まれる合分波波長帯域内の光は、境界23において反射され、それにより幹導波路24から枝導波路25に分波される。 - 特許庁
A nitride semiconductor layer 7 is provided between a gate electrode 3 and the active layer 5, and is composed of a III group nitride semiconductor with a second forbidden band width which is larger than the first forbidden band width.例文帳に追加
窒化物半導体層7は、ゲート電極3と活性層5との間に設けられており、第1の禁制帯幅より大きな第2の禁制帯幅を有するIII族窒化物半導体からなる。 - 特許庁
Light stimulated from the inner quantum well layer 5a with the greater forbidden band width is made incident on the outermost quantum well layers 5b, 5c with the smaller forbidden band width and absorbed in them so that the stimulated emission effect can be improved.例文帳に追加
禁制帯幅の大きい内側の量子井戸層5aから生じた光が、禁制帯幅の小さい最も外側の量子井戸層5b,5cに入射して吸収され、誘導放出効果を高めることができる。 - 特許庁
The fourth semiconductor layer 6 is provided so as to have a gap in a portion thereof on the third semiconductor layer 5, and has a forbidden band width equal to or larger than the forbidden band width of the second semiconductor layer 4.例文帳に追加
第4半導体層6は、第3半導体層5の上において一部に隙間を有して設けられ、第2半導体層4の禁制帯幅以上の禁制帯幅を有する。 - 特許庁
A slab-like body 21 is provided with a plurality of forbidden band areas 211, 212 and holes 221, 222 are arranged at a different period and a different size in each forbidden band area.例文帳に追加
スラブ状の本体21に複数の禁制帯領域211、212を設け、空孔221、222を禁制帯領域毎に異なる周期及び大きさで配置する。 - 特許庁
The first semiconductor layer 14 has a crystal structure that is different from that of the second semiconductor layer 13, and the forbidden band width Eg_1 of the first semiconductor layer 14 and the forbidden band width Eg_2 of the second semiconductor layer 13 satisfy the relation Eg_1<Eg_2.例文帳に追加
第1の半導体層14と第2の半導体層13の結晶構造が異なり、第1の半導体層14の禁制帯幅Eg_1と第2の半導体層13の禁制帯幅Eg_2とが、Eg_1<Eg_2の関係を満たす。 - 特許庁
A photovoltaic cell structure, wherein a p-type light absorption layer has a localized level or an intermediate band in the forbidden band is obtained, by forming a p-n heterojunction that is laminated of an n-type semiconductor, having the forbidden band width larger than that of the light-absorbing layer on the light-incident side thereof.例文帳に追加
p型光吸収層の光入射側に、前記光吸収層よりも禁制帯幅の大きいn型半導体が積層したヘテロ接合型のpn接合の形成により、前記光吸収層は禁制帯中に局在準位または中間バンドをもつ太陽電池構造とする。 - 特許庁
The emitter layer 26 includes a second semiconductor having a larger forbidden band width than that of the first semiconductor.例文帳に追加
エミッタ層26は、第1の半導体材料の禁制帯幅より大きな禁制帯幅を有する第2の半導体を含む。 - 特許庁
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