Independent filmとは 意味・読み方・使い方

He went on to become an independent film maker who directed his own screenplays using his own funds.発音を聞く 例文帳に追加

以降は自作のシナリオを自らの資金繰りで監督する独立映画作家となった。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Above had a great influence on the production of independent films in the subsequent Japanese film industry.発音を聞く 例文帳に追加

これらは、その後の邦画界におけるインディペンデント映画の製作に、多大な影響を与えたとされる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

By the lateral bias film 12, a traverse bias (-M1) independent of the sense current Is flowing through the MR film 11 is applied to the MR film 11.例文帳に追加

この横バイアス膜１２は、ＭＲ膜１１に流れるセンス電流Ｉｓに依存しない横バイアス（−Ｍ１）をＭＲ膜１１に加える。 - 特許庁

To prevent an independent thin film from being damaged due to an atmospheric pressure difference between spaces at both sides, in a manufacturing process, by communicating the spaces at both the sides without having an adverse effect on vibration property of the independent thin film, thereby improving a flexibility of the manufacturing process.例文帳に追加

自立薄膜の振動特性に悪影響を及ぼすことなく、その両側の空間を連通させて、両側の空間の気圧差に伴う製造工程での自立薄膜の破損を防止し、製造工程の自由度の向上を図る。 - 特許庁

It was an independent film production company established in the earliest days of Japanese film industry, and the company was active and successful in the 1920's.発音を聞く 例文帳に追加

1920年代（大正末期）の日本映画において活動し成功した、初期の独立プロダクションである。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To obtain an inorganic film material capable of being bent and self- existent as an independent film when peeled off a substrate.例文帳に追加

基板から剥離して独立のフィルムとして存在し、屈曲することが可能な無機質フィルム材料を提供する。 - 特許庁

The resistance film 14B is parted from the resistance film 14A by the step 16 to be an independent electrode surface covering the standing surface of the partition 15.例文帳に追加

ステップ１６によって、抵抗膜１４Ｂは、抵抗膜１４Ａから分断され、隔壁１５の起立面を覆う独立した電極面となる。 - 特許庁

The iris device to be used for an electron microscope has a structure obtained by laminating a silicon oxide film and an independent thin film on a silicon substrate successively from the silicon substrate side, and the independent thin film has a Young's modulus larger than that of the silicon oxide film and tensile stress.例文帳に追加

シリコン基板上に、前記シリコン基板側から順にシリコン酸化膜、自立薄膜が積層された構造であり、前記自立薄膜は前記シリコン酸化膜よりもヤング率が大きく、かつ引張応力を有することを特徴とする電子顕微鏡に用いる絞り装置。 - 特許庁