Note that the widget might already have those mask bitsset because of other nonraw event handlers registered on it. The XtRemoveRawEventHandlerfunction stops the specified procedure from receiving the specified events.Because the procedure is a raw event handler, this does not affect thewidget's mask and never causes a call on XSelectInput.発音を聞く 例文帳に追加

.LPXtInsertEventHandlerは、追加の引き数 \\fIposition\\fP を指定したXtAddEventHandlerと同じである。 - XFree86

Although a tsukidare of men-mask, a guard mask of kendo swordmanship, protects the throat, the tsuki is prohibited for junior high school students and younger because it is dangerous if they remove the mask.発音を聞く 例文帳に追加

一応は防具(剣道)面の突き垂が保護しているものの、外すと危険なので、中学生以下は禁止されている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Sharpness improving processing is limited by the mask signal mask_A, and it is prevented that pre-over processing by sharpness improving is visually confirmed in a natural image region by limiting sharpness improving processing by the mask signal mask_A.例文帳に追加

鮮鋭度改善処理をマスク信号mask_Aにより制限し、自然画像領域において鮮鋭度改善によるプリオーバ処理が視認されることを防止する。 - 特許庁

The charged particle beam exposure mask is a mask composed of a mask board and a pattern formed on it with openings, and the beam exposure mask is equipped with pattern regions 23 and 24 which are complementarily divided and a pattern region 22 which is not complementarily divided on the same mask 21.例文帳に追加

マスク基板に開口によってパターンが形成されている荷電粒子線露光用マスクであって、同一マスク２１内に相補分割されたパターン領域２３，２４と相補分割されていないパターン領域２２を有する。 - 特許庁

Wearing a mask in the summer is difficult even though it is a measure against COVID-19.例文帳に追加

コロナ対策とはいえ夏場のマスク着用は辛いです。 - 時事英語例文集

It is a red mask with a smile on the eyes and the lips.発音を聞く 例文帳に追加

顔に赤い彩色をほどこし、目元と口元に笑みをうかべている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

A mask pattern conversion part 15 re-judges a valid pixel on the basis of mask judgement reference information from the enlarged/reduced mask pattern and converts it to the mask pattern composed of binary data indicating only whether or not it is valid.例文帳に追加

マスクパターン変換部１５が、拡大縮小処理されたマスクパターンから、マスク判定基準情報に基づいて有効画素を再判定し、有効か否かのみ示す２値のデータからなるマスクパターンに変換する。 - 特許庁

A step (S20) of forming a film which is to become a second mask layer so that it is brought into contact with a side of the first mask layer is performed.例文帳に追加

第１のマスク層の側面に接触するように、第２のマスク層となるべき膜を形成する工程（Ｓ２０）を実施する。 - 特許庁

A prefix mask is provided even to each prefix of the tree, and it is useful in a relationship with a composition of the search mask.例文帳に追加

プレフィクス・マスクは、ツリーの各プレフィクスに対しても提供され、サーチ・マスクの構成との関係でも有用である。 - 特許庁

In the main mask MM, it is not necessarily needed that all the split masks MDM are respectively constituted of a split mask having no defect, the substantial yield of the manufacture of the exposure mask is raised, a shortening of the forming time of the exposure mask is enabled and a reduction in the cost of the exposure mask can be realized.例文帳に追加

主マスクＭＭは必ずしも全ての分割マスクＭＤＭが欠陥のない分割マスクで構成される必要はなく、露光用マスクの実質的な製造歩留りを向上し、露光用マスクの作製時間の短縮を可能にして低コスト化が実現できる。 - 特許庁

Further, the face mask 10 can be washed with water to repeatedly use it and is economical, because the microbicidal effect of the face mask 10 is due to a photocatalytic effect and is sustained.例文帳に追加

また、本例のフェイスマスク１０の殺菌効果は、光触媒作用であり持続されるので、水洗いして繰返し使用でき、経済的である。 - 特許庁

Then, by etching this mask layer by hydrofluoric acid, there is formed a pent-roof mask 20 wherein the closer to the growth surface 11A it is, the narrower its width is.例文帳に追加

このマスク層をフッ酸でエッチングすることにより、成長面１１Ａに近いほど幅の狭い庇マスク２０を形成する。 - 特許庁

The hard mask material 2 is patterned in the form of thick film wiring 6, and the aluminum alloy film 3 is etched up to halfway as it is made a mask.例文帳に追加

ハードマスク材２を厚膜配線６の形にパターニングし、これをマスクとしてアルミ合金膜３を途中までエッチングする。 - 特許庁

According to one theory, it is said that the mask was named so because it was made by a Buddhist monk named Hannyabo.発音を聞く 例文帳に追加

一説には、般若坊という僧侶が作ったところから名がついたといわれている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

After hardening the mask at a mask-hardening part 15, a thin film is applied on it at a film- forming part 16.例文帳に追加

このマスクをマスク硬化部１５において硬化させた後、成膜部１６において全面に薄膜を形成する。 - 特許庁

An exposure process is performed together with a phase shift mask, on the photoresist layer, and it shifts the pattern of the mask onto the photoresist layer.例文帳に追加

露光工程は、フォトレジスト層上で位相シフトマスクと一緒に行われ、フォトレジスト層上にマスクのパターンを移動する。 - 特許庁

The reflective mask is formed by using a mask blank comprising the substrate 1 and the multilayer film 2 arranged on it.例文帳に追加

基板１と、その上に設けられた多層膜２とを含むマスクブランクを用いて反射型マスクを形成する。 - 特許庁

To display a mask image which is photographed by a monitoring camera and to which mask processing for privacy protection is performed on a monitor, and to instantaneously switch it to a source image for which the mask processing is removed in emergency.例文帳に追加

監視カメラで撮影されプライバシー保護用のマスク処理が施されたマスク画像をモニターに表示し、緊急時にはマスク処理を外した原画像に瞬時に切り替えること。 - 特許庁

The form of the Shojo is made of bamboo, and it is put a red mask and a large costume.発音を聞く 例文帳に追加

猩々人形は赤い顔の面と上半身分の竹枠組みで出来ておりその上から衣装で覆う。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The semiconductor wafer 13 is installed on a base plate 11 and a mask 14 is further arranged on the upper side of it.例文帳に追加

ベース板11上に半導体ウエハ13を設置し、さらにその上側にマスク14を配置する。 - 特許庁

A lower electrode 10A and a ferroelectric film 12A are formed by the use of an oxide film mask 22A and a photoresist mask 24, and the oxide film mask 22A is left unremoved as it is even after the lower electrode 10A is formed.例文帳に追加

また、下部電極１０Ａ及び強誘電体膜１２Ａを形成するのに酸化膜マスク２２Ａ及びフォトレジストマスク２４を用い、下部電極１０Ａ形成後もこの酸化膜マスク２２Ａをそのまま残存させる。 - 特許庁

Since the circuit diagram is utilized as a detailed instruction book regarding a mask pattern as it is, just by delivering an electronic circuit diagram to the mask pattern generator, a mask layout satisfactory to an analog circuit design engineer is obtained.例文帳に追加

従って、回路図がそのままマスクパターンに関する細かい指示書として活用できるため、電子回路図をマスクパターン生成者に手渡すだけで、アナログ回路設計技術者の満足するマスクレイアウトが得られる。 - 特許庁

In this manufacture, Si3N4 2 is grown on an Si substrate 1, and a mask Si3N4 2 is left behind, so as to plasma-etch it.例文帳に追加

Ｓｉ基板１上にＳｉ_3Ｎ_4２を成長させ、マスクＳｉ_3Ｎ_4２を残し、プラズマエッチングする。 - 特許庁

A buffer layer 112 functions as a stress relaxation layer, and a hard mask layer 114 is formed on it.例文帳に追加

バッファ層１１２は応力緩和層として機能しハードマスク層１１４が形成される。 - 特許庁

To provide a mask aid capable of smoothly preforming breathing or conversion by utilizing a commercial mask as it is without damaging a mask function for preventing the drying of a nose and the invasion of dust, pollen or a common cold virus.例文帳に追加

鼻の乾燥や埃、花粉、又は風邪によるウイルスの侵入を防ぐためのマスク機能を損なうことなく市販のマスクをそのまま利用して呼吸や会話が円滑に行うことが可能とするマスク補助具を提供する。 - 特許庁

Prior to a plating process, the manufacturing method comprises a mask jig mounting process of mounting a mask jig 18 on a mask part 4 different from an electrode scheduled part 3 where it is scheduled to form an electrode 21 in an inner surface 1n of a base body 1.例文帳に追加

メッキ工程に先立って、基体１の内表面１ｎのうち電極２１を形成する予定の電極予定部３とは異なるマスク部４に、マスク治具１８を装着するマスク治具装着工程を備える。 - 特許庁

To provide a sanitarily usable mask by solving the problem that it is very insanitary to re-wear the mask by grasping a main body 1, which is contaminated by inspiration and expiration, etc., in correcting the deviation of the mask.例文帳に追加

マスクのズレを直す時に呼気、吸気等のために汚染されてしまった本体１を掴んで直すことは大変不衛生であるため衛生的に使用できるマスクを提供する。 - 特許庁

It is prevented that a processing boundary is visually confirmed with visual sensation in a natural image region by limiting contrast improving processing and colors improving processing by the mask signal mask_B.例文帳に追加

コントラスト改善処理および色改善処理をマスク信号mask_Bにより制限し、自然画像領域において視覚的に処理境界が視認されることを防止する。 - 特許庁

To enable a correction verification method to reflect the stress distribution or heat distribution over an exposure mask so to improve the device in verification accuracy when it is verified that the correction of distortion made for a mask pattern on the exposure mask is right or not.例文帳に追加

露光用マスク上のマスクパターンに対する歪補正の適否を検証するのにあたり、その露光用マスク上での応力分布や熱分布を反映させ得るようにして、その検証精度を向上させる。 - 特許庁

A global variable reflecting the RPC service side's read file descriptor bit mask; it is suitable as a parameter to the select (2)発音を聞く 例文帳に追加

RPC サービス側のファイル・ディスクリプターのビットマスクを反映した大域変数。 select (2) - JM

A light shielding mask 24 is arranged on an incidence plane side of a fly eye lens 23 to face it.例文帳に追加

フライアイレンズ２３の入射面側に遮光マスク２４を対向配置する。 - 特許庁

To provide a method of etching a photoresist mask while it is cured.例文帳に追加

フォトレジストマスクを硬化しながら当該フォトレジストマスクをエッチングする方法を提供する。 - 特許庁

A mask pattern formed on the mask 5 arranged between a light source 2 and a substrate to be processed 4 is electrically controlled by a mask control unit 6 so as to change it.例文帳に追加

光源２と被処理基板４との間に設置されるマスク５上に形成されるマスクパターンを、マスク制御部６によって電気的に制御して変化させる。 - 特許庁

It is desired that this masking device is provided with a mask attribute storing means for storing at least one of the mask range of each keyword, release conditions in each job rank and the release date of the mask.例文帳に追加

好ましくは、キーワード毎のマスク範囲と、職位別の解除条件と、マスクの解除期日の少なくとも１つを記憶するマスク属性記憶手段を更に備える。 - 特許庁

The mask storage implement is also used as a spare mask storage implement, and allows the user to hygienically carry it around the mask at ease and at any time by putting the implement in a bag or a pocket.例文帳に追加

予備のマスク収納具としても使用可能であり、バックやポケットに入れていつでもマスクを清潔に安心して持ち歩ける収納具とした。 - 特許庁

A process's CPU affinity mask determines the set of CPUs on which it is eligible to run.発音を聞く 例文帳に追加

プロセスの CPU affinity (親和度) マスクは、そのプロセスが実行を許可されている CPU の集合を決定する。 - JM

It is urged that people should wear long-sleeved clothes when going outdoors and should wear goggles and a mask to keep themselves clean.発音を聞く 例文帳に追加

外出時に長袖の衣服を着てゴーグル・マスクなどでで清潔を保つよう勧告。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To offer a cold prophylaxis mask which inhibits cold by enabling it to inhale wetting air and is not stifling.例文帳に追加

湿潤な空気を吸えるようにすることで、風邪を防止し、息苦しくない風邪予防マスクの提供。 - 特許庁

To provide a metal printing mask which can surely identify the use limit of the mask being abraded with the use of it when screen process printing is done on the mask by using a metal squeegee.例文帳に追加

金属製の印刷マスクに対して金属製のスキージを用いてスクリーン印刷を行なう場合に、使用にともなって摩耗する印刷マスクの使用限界を確実に識別することができる印刷マスクを提供する。 - 特許庁

To provide a dust-proofing device which can prevent contamination of a stencil mask due to sticking of dust, etc., and further can prevent distortion of the stencil mask even when the membrane region is enlarged, and to provide a stencil mask with the dust-proofing device, an exposure method using it, a mask inspection method and a defect repairing method.例文帳に追加

ステンシルマスクの塵埃等の付着による汚染を防止し、さらにメンブレン領域を大きくしてもステンシルマスクの歪みを防止できる防塵装置と、防塵装置付きステンシルマスクおよびこれを用いた露光方法、マスク検査方法と欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

This openable overlapped section of this covering part 10 of the mask makes it possible that the wearer eats, drinks and smokes without taking the mask off, because the overlapped section is opened and a straw 30 or a cigarette is inserted through it so that the wearer can hold it in the wearer's mouth.例文帳に追加

マスクの被覆部10に開口可能な重複箇所を設けることで、この重複箇所を開いてストロー30やタバコなどを挿入し、口にすることができるため、マスクを外すことなく飲食や喫煙が可能になる。 - 特許庁

Further, it is also possible to obtain the cosmetic mask by softening or melting the end edges of a mask body 1 made of the unwoven fabric and ear hanging parts 2 made of the unwoven fabrics separate from each other to connect the mask body 1 and the ear hanging parts 2 by fusion joint.例文帳に追加

また、別体の不織布製マスク本体１と不織布製耳掛け部２の端縁同士を、軟化又は溶融させて、マスク本体１と耳掛け部２とを融着接合によって連接させて、美容マスクを得ることもできる。 - 特許庁

The display color of the mask image 16 is controlled and switched so that the black mask image 16 is displayed when it is determined that the outside of the vehicule is bright by a luminance signal detected by the photodiode 7, and the light blue mask image 16 is displayed when it is determined that the outside of the vehicule is dark.例文帳に追加

フォトダイオード７で検出された輝度信号により車両外部が明るいと判断された場合には黒色のマスク画像１６が表示され、車両外部が暗いと判断された場合には明るい青色のマスク画像１６が表示されるようにマスク画像１６の表示色が切換制御される。 - 特許庁

In the manufacturing method of a semiconductor device, mask materials 70, 80 to be patterned on a desired target pattern are deposited on a ground material 10, the mask material is patterned on a spare pattern that contains a target pattern and is wider than it, the mask material is patterned on the target pattern, and a ground material is treated by using the mask material as a mask.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、所望の目標パターンにパターニングされるべきマスク材料７０、８０を下地材料１０上に堆積し、目標パターンを含みかつそれよりも広い予備パターンにマスク材料をパターニングし、目標パターンにマスク材料をパターニングし、マスク材料をマスクとして用いて下地材料を処理することを具備する。 - 特許庁