M MPとは 意味・読み方・使い方

Further, a target mark MP is displayed at a jet displaying position M according to the point where washing water reaches when a foot switch 22 is half pressed.例文帳に追加

そして、フットスイッチ２２が半押しされると、洗浄水が到達する場所に応じた噴出表示位置ＭにターゲットマークＭＰを表示させる。 - 特許庁

A storage device 24 stores the sound model M in which the plurality of phoneme model MP corresponding to a different utterance strength L are set for each phoneme.例文帳に追加

記憶装置２４は、相異なる発声強度Ｌに対応する複数の音素モデルＭPが音素毎に設定された音響モデルＭを記憶する。 - 特許庁

In addition, all conveying amounts Pf capable of existing in each mode are conformed to an integer multiple of the basic minimum conveying amount pitch P (Pf=mP, m is integer).例文帳に追加

さらに、各モードで存在しうる全ての搬送量Ｐｆは基本最小搬送ピッチＰの整数倍と一致する（Ｐｆ＝ｍＰ、ｍは整数）。 - 特許庁

When a base sequence of M 13 mp 18 of a single-strand DNA is sequenced by using the gel, a base of about 680 can be sequenced.例文帳に追加

そのゲルを用いて、１本鎖ＤＮＡであるＭ１３ｍｐ１８の塩基配列をシーケンシングしたところ、約６８０ベースのシーケンシングが可能であった。 - 特許庁

The rate Pp of a change in the weight average molecular weight Mp with respect to weight average molecular weight M of the pellet 34 is -30% or higher.例文帳に追加

予備成形体の重量平均分子量Ｍｐの、ペレット３４の重量平均分子量Ｍに対する変化率Ｐｐは、−３０％以上である。 - 特許庁

A second collation section 46 collates the voice signal V with the sound model M by utilizing the phoneme model MP of the utterance strength L in the strength table TBL1 corresponding to the observation strength P which is measured by the strength measurement section 34, in the plurality of phoneme model MP which are set for each phoneme of the sound model M.例文帳に追加

第２照合部４６は、音響モデルＭの各音素に設定された複数の音素モデルＭPのうち、強度測定部３４が測定した観測強度Ｐに強度テーブルＴBL1にて対応する発声強度Ｌの音素モデルＭPを利用して、音声信号Ｖと音響モデルＭとを照合する。 - 特許庁

A mask M, for forming an image of a pattern MP on a substrate P while rotating around a predetermined axis J, comprises; a pattern formation surface MF disposed around the predetermined axis J on which the pattern MP is formed; and a mark, formed in a predetermined positional relationship with the pattern MP in a predetermined area of the pattern formation surface MF, for acquiring positional information.例文帳に追加

所定軸Ｊ周りに回転しつつ基板Ｐ上にパターンＭＰの像を形成するためのマスクＭであって、パターンＭＰが形成され、所定軸Ｊ周りに配置されたパターン形成面ＭＦと、パターン形成面ＭＦの所定領域にパターンＭＰに対して所定位置関係で形成された位置情報を取得するためのマークとを備えている。 - 特許庁

Modulus M (=V/S) of the cavities 2, 3, 4 being the ratio of volume V to cooling surface area S satisfy the relationship of Ms>Mp>Mc where Mp denotes the modulus of the product cavity 2, Ms denotes the modulus of the supply cavity 3, and Mc denotes the modulus of the cooling cavity 4.例文帳に追加

各キャビティ２、３、４における、冷却表面積Ｓに対する体積Ｖの比であるモジュラスＭ（＝Ｖ／Ｓ）は、製品キャビティ２のモジュラスをＭｐ、補給キャビティ３のモジュラスをＭｓ、冷却キャビティ４のモジュラスをＭｃとしたとき、Ｍｓ＞Ｍｐ＞Ｍｃの関係を有している。 - 特許庁