Non-Thermal Atmospheric Pressure Plasmaとは意味・読み方・使い方

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意味・対訳 plasma gasやプラズマガスの同義語(異表記)

Weblio英和対訳辞書での「Non-Thermal Atmospheric Pressure Plasma」の意味

Non-Thermal Atmospheric Pressure Plasma

Non-Thermal Atmospheric Pressure Plasmaは、plasma gasやプラズマガスの同義語(異表記)です。

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「Non-Thermal Atmospheric Pressure Plasma」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 2件

例文

To provide a jet-type microwave-excited plasma treatment device that causes low-temperature non-thermal equilibrium plasma to be stably jetted from a nozzle by microwave power at atmospheric pressure or a pressure near atmospheric pressure to perform CVD (chemical vapor deposition), etching, or ashing using plasma on a workpiece, or material processing such as fusing, welding or surface reforming on a workpiece.例文帳に追加

大気圧下で又は大気圧付近の圧力で、マイクロ波電力により低温の非熱平衡プラズマを安定して、ノズルから吹き出させ、被加工物にプラズマを使用したＣＶＤ（化学蒸着）、エッチング、アッシング、被加工物に溶断又は溶接、表面改質等の材料プロセシングを行う吹き出し形マイクロ波励起プラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

例文

This dehydrogenation treatment is characterized by including processes of: forming a hydrogenated amorphous silicon film on a non-heat-resistant substrate; and eliminating bonded hydrogen from the hydrogenated amorphous silicon film by irradiating the hydrogenated amorphous silicon film with an atmospheric-pressure thermal plasma torch for a period of 1-500 ms to heat the surface of the substrate to 1,000-2,000°C.例文帳に追加

非耐熱性の基板上に水素化非晶質シリコン膜を形成する工程、および、前記水素化非晶質シリコン膜に大気圧熱プラズマトーチを１ミリ秒以上５００ミリ秒以下の時間照射して、前記基板の表面を１０００℃以上２０００℃以下に加熱することにより、前記水素化非晶質シリコン膜から結合水素を除去する工程を具備することを特徴とする。 - 特許庁

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