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PVD METHODとは 意味・読み方・使い方

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意味・対訳 PVD法


JST科学技術用語日英対訳辞書での「PVD METHOD」の意味

PVD method


「PVD METHOD」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 123



例文

PVD METHOD例文帳に追加

PVD方法 - 特許庁

METHOD FOR PEELING PVD FILM例文帳に追加

PVD皮膜の剥離方法 - 特許庁

To provide a physical vapor deposition (PVD) apparatus and a PVD method.例文帳に追加

物理気相蒸着(PVD)装置とPVD法を開示する。 - 特許庁

FILM DEPOSITION METHOD BY PVD AND TARGET FOR FILM DEPOSITION USED FOR PVD例文帳に追加

PVD法による成膜方法及びPVD法に用いる成膜用ターゲット - 特許庁

MULTILAYER PVD FILM FORMING APPARATUS FOR SUBSTRATE AND METHOD THEREFOR例文帳に追加

基板の多層PVD成膜装置および方法 - 特許庁

METHOD FOR PRETREATING SUBSTRATE FOR PVD METHODS例文帳に追加

PVD法のための基材前処理方法 - 特許庁

例文

More preferably, the PVD method is an evaporation method or a sputtering method.例文帳に追加

PVD法が、蒸着法、スパッタリング法であるとさらに好ましい。 - 特許庁

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「PVD METHOD」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 123



例文

Further, the inner layer is formed by the CVD method which can give excellent adhesiveness, and the outermost layer is formed by the PVD method which can give a compressive residual stress.例文帳に追加

そして、内層を密着性に優れるCVD法にて形成し、最外層を圧縮残留応力が付与できるPVD法にて形成する。 - 特許庁

Moreover, oblique evaporation is performed by vacuum vapor deposition as the PVD method.例文帳に追加

また、PVD法として真空蒸着法で斜方蒸着する。 - 特許庁

HCD/UBMS HYBRID PVD METHOD, AND APPARATUS THEREOF例文帳に追加

HCD・UBMSハイブリッドPVD法およびその装置 - 特許庁

GRAIN-ORIENTED SILICON STEEL SHEET, ITS MANUFACTURING METHOD, AND PVD TREATMENT DEVICE例文帳に追加

一方向性電磁鋼板、その製造方法及びPVD処理装置 - 特許庁

PVD TREATMENT SYSTEM, AND METHOD OF FORMING HARD FILM USING THE SAME例文帳に追加

PVD処理装置及びこれを用いた硬質被膜の形成方法 - 特許庁

After forming a film including an Mo nitride on the glass substrate 1 as a relaxed layer 2 by a PVD method under an atmosphere that contains nitrogen gas, an Mo film is formed as the Mo electrode film 3 by the PVD method under an Ar gas atmosphere, thus reducing internal stresses of a film and preventing ready peeling.例文帳に追加

ガラス基板1上に、窒素ガスを含む雰囲気でPVD法によりMo窒化物を含む膜を緩衝層2として形成した後、Arガス雰囲気でPVD法によりMo膜をMo電極膜3として形成することで、被膜の内部応力を低減することができ、剥がれ難くできる。 - 特許庁

The thin film material of photocatalyst which develops an active function as photocatalyst, is obtained by means of forming an island- shaped film 2a on a substrate 1 by a CVD or PVD method, and growing a tabular crystalline 2d by the CVD or PVD method on the island-shaped film 2a as a core.例文帳に追加

CVD法またはPVD法で基板1上に島状膜2aを形成させ、その島状膜2aを核として、CVD法またはPVD法で板状の結晶2dを成長させることにより、高活性な光触媒機能を発現する光触媒薄膜材料を得られる。 - 特許庁

例文

Preferably, the metalescent layer is formed by an electroless plating method, a CVD method or a PVD method.例文帳に追加

金属光沢層が無電解メッキ法、CVD法、PVD法で形成すると好ましい。 - 特許庁

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