Pierce type electron gunとは 意味・読み方・使い方

PIERCE-TYPE ELECTRON GUN, VACUUM EVAPORATION SYSTEM PROVIDED WITH THE SAME AND METHOD FOR PREVENTING ABNORMAL DISCHARGE OF PIERCE-TYPE ELECTRON GUN例文帳に追加

ピアス式電子銃、これを備えた真空蒸着装置およびピアス式電子銃の異常放電防止方法 - 特許庁

PIERCE-TYPE ELECTRON GUN AND VACUUM EVAPORATOR PROVIDED WITH THE SAME例文帳に追加

ピアス式電子銃およびこれを備える真空蒸着装置 - 特許庁

The vacuum evaporation system of the invention is provided with the pierce-type electron gun of the invention.例文帳に追加

また、本発明の真空蒸着装置は、本発明のピアス式電子銃を備えることを特徴とする。 - 特許庁

ELECTRON BEAM VAPOR DEPOSITION SYSTEM, METHOD FOR DEPOSITING VAPOR DEPOSITED FILM ON THE SURFACE OF SUBSTRATE USING THE SYSTEM, PIERCE TYPE ELECTRON GUN, AND METHOD FOR MONITORING BEAM STATE OF PIERCE TYPE ELECTRON GUN例文帳に追加

電子ビーム蒸着装置、当該装置を用いて行う基板の表面への蒸着被膜の形成方法、ピアス式電子銃、および、ピアス式電子銃のビーム状態のモニタ方法 - 特許庁

To provide a pierce-type electron gun capable of stably and uniformly generating an electron beam without causing abnormal discharge for a long time, and to provide a vacuum evaporation system provided with this and a method for preventing abnormal discharge of the pierce-type electron gun.例文帳に追加

長時間にわたって異常放電を引き起こすことなく電子ビームを安定かつ一定に発生させることができるピアス式電子銃、これを備えた真空蒸着装置およびピアス式電子銃の異常放電防止方法を提供すること。 - 特許庁

In the electron beam vapor deposition system provided with a pierce type electron gun, sensors for catching electrons sprung from or result from electron beams are installed in the vicinities of beam paths, and electric current and/or voltage based on the electrons caught by the sensors is detected, thus the state of the beam is monitored.例文帳に追加

本発明の電子ビーム蒸着装置は、電子ビームに起因乃至由来する電子を捕捉するためのセンサがビームパスの近傍に設置され、センサによって捕捉された電子に基づく電流および／または電圧を検出することで、ビーム状態をモニタするようにしたピアス式電子銃を備えてなることを特徴とする。 - 特許庁

In the pierce-type electron gun of this invention, a cathode in an electron beam generating part is provided with a collection hole for collecting ions flowing backwards to a cathode and a cathode component spattered by collision of the ions to the cathode and having an aspect ratio of the depth to a diameter is 1.5 or more.例文帳に追加

本発明のピアス式電子銃は、電子ビーム発生部におけるカソードに、カソードに向かって逆流してくるイオンと、カソードへのイオンの衝突によりスパッタされたカソード成分を捕集するための、直径に対する深さのアスペクト比が１．５以上の捕集孔が予め設けてあることを特徴とする。 - 特許庁