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Plasma-enhanced chemical vapor depositionとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 プラズマ加速化学蒸着; プラズマ促進化学蒸着; プラズマ増強化学蒸着; プラズマ強化化学蒸着
「Plasma-enhanced chemical vapor deposition」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 42件
PLASMA ENHANCED CYCLIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF SILICON-CONTAINING FILMS例文帳に追加
ケイ素含有膜の周期的プラズマ化学気相堆積 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION例文帳に追加
プラズマ化学気相堆積のための方法および装置 - 特許庁
APPARATUS FOR PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING CARBON NANOTUBE例文帳に追加
プラズマ化学気相堆積装置及びカーボンナノチューブの製造方法 - 特許庁
DUAL FREQUENCY PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF SILICON CARBIDE LAYERS例文帳に追加
炭化ケイ素層のデュアル周波数プラズマ励起化学気相成長 - 特許庁
The method is preferably carried out by using plasma enhanced atomic layer deposition, plasma enhanced chemical vapor deposition, and plasma enhanced cyclic chemical vapor deposition.例文帳に追加
この方法は、好ましくは、プラズマ原子層堆積、プラズマ化学気相成長、及びプラズマサイクリック化学気相成長を用いることによって実行される。 - 特許庁
PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION APPARATUS AND METHOD OF PRODUCING CARBON NANOTUBE USING THE SAME例文帳に追加
プラズマ化学気相蒸着装置及びこれを用いた炭素ナノチューブの製造方法 - 特許庁
DESIGN OF GAS DIFFUSION SHOWER HEAD FOR LARGE-AREA PLASMA-ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION例文帳に追加
大面積プラズマ増強化学気相堆積のためのガス拡散シャワーヘッド設計 - 特許庁
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ウィキペディア英語版での「Plasma-enhanced chemical vapor deposition」の意味 |
Plasma-enhanced chemical vapor deposition
出典:『Wikipedia』 (2011/04/07 23:30 UTC 版)
「Plasma-enhanced chemical vapor deposition」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 42件
To reduce the heating of substrates during plasma enhanced chemical vapor deposition.例文帳に追加
本発明は、プラズマ化学気相堆積時の基板の加熱を低減する目的に基づいている。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a solar cell by utilizing an induction coupled plasma enhanced chemical vapor deposition.例文帳に追加
誘導結合プラズマ化学気相蒸着法を利用した太陽電池の製造方法を提供する。 - 特許庁
GAS DISTRIBUTION PLATE ASSEMBLY FOR LARGE AREA PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION例文帳に追加
大面積プラズマ化学気相堆積法のためのガス分配プレートアセンブリ - 特許庁
Cat-PECVD (CATALYTIC PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION) METHOD, FILM FORMED USING THE SAME, AND THIN FILM DEVICE EQUIPPED WITH THE FILM例文帳に追加
Ｃａｔ−ＰＥＣＶＤ法、それを用いて形成した膜、およびその膜を備えた薄膜デバイス - 特許庁
A method for depositing a film includes arranging a substrate in a plasma enhanced chemical vapor deposition chamber.例文帳に追加
プラズマ化学気相成長チャンバ内に基板を配置する段階を備える成膜方法を開示する。 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING SOLAR CELL UTILIZING INDUCTION COUPLED PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION例文帳に追加
誘導結合プラズマ化学気相蒸着法を利用した太陽電池の製造方法 - 特許庁
To provide a method for the deposition of a silicon dioxide film of high quality onto a substrate using plasma enhanced chemical vapor deposition and TEOS.例文帳に追加
プラズマ増強化学気相成長とＴＥＯＳを用いて基板上に高品質の二酸化ケイ素膜を堆積する方法を提供する。 - 特許庁
The microcrystalline semiconductor layer forming the first semiconductor layer is formed by a plasma-enhanced chemical vapor deposition method.例文帳に追加
第１の半導体層を構成する微結晶半導体層はプラズマ励起化学気相成長法に形成される。 - 特許庁
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