ROUGH SURFACE FINISHとは 意味・読み方・使い方

When manufacturing the polish finishing steel pipe by performing rough polishing and the subsequent finish polishing for the ferritic stainless steel pipe 5, the finish polishing is performed in a state of a surface temperature of a raw steel material maintained to ≤110°C just after passing a finish polishing tool 7.例文帳に追加

フェライト系ステンレス鋼管５に粗研磨とその後の仕上げ研磨を施して研磨仕上げ鋼管を製造する際に、仕上げ研磨工具７を過ぎた直後での素鋼材の表面温度を１１０℃以下に維持した状態で仕上げ研磨を施す。 - 特許庁

In the apparatus for machining planar surface 10, a grinding stage 22 is set on a body 12, on which a rough grinding stage 18 and a finishing grinding stage 20 are set, and rough grinding, finish grinding, and polishing of a wafer 28 are implemented in the identical apparatus for machining the planar surface 10.例文帳に追加

本発明の平面加工装置１０によれば、粗研削ステージ１８、仕上げ研削ステージ２０が設置された本体１２に、研磨ステージ２２が設置され、ウェーハ２８の粗研削、精研削、及び研磨を同一の平面加工装置１０内で実施する。 - 特許庁

The inner peripheral surface of the insulating straight pipe 11 and the outer peripheral surface of the insulating core rod 12 have rough surfaces formed by mechanical surface finish due to polishing or drilling.例文帳に追加

絶縁性直管１１の内周面および絶縁性芯棒１２の外周面は研磨または穿孔による機械的表面仕上げにより形成された粗面を有する。 - 特許庁

The rough-surface finish 7 is processed in one side 3 of the wafer 1 with different roughness in the front surface from that in the back surface, at a previous process of the cleavage process.例文帳に追加

劈開形成する加工工程の前の工程で、ウェハ１の片面３に、オモテ面とウラ面との表面粗さを異ならせる粗面化処理７を施した構造とする。 - 特許庁

For surface grinding, grinding wheels 1, 1 are provided with a circular grinding surface 1a of rough machining concentrically with a grinding spindle (x) as a center and a circular grinding surface 1b for finish machining, respectively.例文帳に追加

平面研削加工にあたり、砥石車１，１に砥石軸ｘを中心に同心状に粗加工用の環状研削面１ａと、仕上げ加工用の環状研削面１ｂとを設ける。 - 特許庁

When necessary processing is performed on the glass substrate and rough polishing and then finish polishing are performed on the surface of the glass substrate, a finish polishing process comprises an ultra-precision polishing step of polishing the surface of the glass substrate by using a polishing liquid (polishing slurry) comprising colloidal silica abrasive grains produced by hydrolysis of an organosilicon compound.例文帳に追加

ガラス基板に必要な加工処理を施し、表面を粗研磨した後に仕上研磨を行う方法において、その仕上研磨工程の中に、有機ケイ素化合物を加水分解することで生成したコロイダルシリカ砥粒を含む研磨液（スラリー）を用いて研磨する超精密研磨工程を設ける。 - 特許庁

To provide an effective method of obtaining a surface of high quality by removing a layer deteriorated by processing from the surface of a silicon carbide single crystal wafer which has been rough-lapped for chemical stability, and then finish polishing.例文帳に追加

本発明は、荒研磨(ラップ)した化学的に安定な炭化珪素単結晶ウェハ表面から加工変質層を除去して仕上げ研磨(ポリッシュ)することで、高品質な表面を得る効果的な方法を提供する。 - 特許庁

To provide an etching method of a silicon wafer, by which excellent mirror finish flatness can be obtained on the front surface and the rear surface is a little rough.例文帳に追加

表面を鏡面研磨したウェーハにおいて、良好な平坦度を得、かつ裏面粗さが小さくなるシリコンウェーハのエッチング方法を提供する。 - 特許庁