The Wash (film)とは 意味・読み方・使い方

The semiconductor 22 with the separated resist film 24 is taken out of the pressure chamber 10 and exposed to flowing water (or hot water) 27 to wash off the resist film 24.例文帳に追加

レジスト膜２４を浮き上がらせた半導体ウエハ２２は、圧力容器１０から取り出し、流水（または温水）２７に晒してレジスト膜２４を洗い流す。 - 特許庁

For example, the washing liquid whose pH value is adjusted so that the foreign materials sticking to the resist film 301 can be removed can be used to wash the resist film 301.例文帳に追加

例えば、レジスト膜３０１に付着した異物に除去できるようにｐｈ値が調整された洗浄液を用いてレジスト膜３０１を洗浄してもよい。 - 特許庁

To provide an old coating film-repairing method for forming a repairing film which can form a contamination-preventing layer excellent in contamination resistance, climate resistance warm-water resistance and frost-damage resistance, and has the capability to wash itself.例文帳に追加

耐汚染性、耐候性、耐温水性、耐凍害性に優れ、かつ自己洗浄能力を有する防汚層を形成可能な補修塗膜を形成する旧塗膜の補修方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a coating film-depositing method which forms a coating film which is excellent in contamination resistance, climate resistance, warm-water resistance and frost-damage resistance, and has the capability to wash itself.例文帳に追加

耐汚染性、耐候性、耐温水性、耐凍害性に優れ、かつ自己洗浄能力を有する防汚層を形成可能な塗膜の形成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a residue cleaning liquid having high power to wash residue generated in the production of an electronic circuit, also having anticorrosive effect on an insulating film, a low dielectric film or wiring and less liable to foam.例文帳に追加

電子回路製造時に発生する残さの洗浄性が高く、また、絶縁膜、低誘電膜、配線等ぼ下地の防食効果も高い上、泡立ちも少ない残さ洗浄液を開発すること。 - 特許庁

As the characteristic constitution, this method further contains the step of dipping the wafer in an aqueous solution 13 containing the surfactant between the oxide film removing step and the dissolved ozonous water washing step to wash both the surfaces of the wafer.例文帳に追加

その特徴ある構成は、酸化膜除去工程と溶存オゾン水洗浄工程との間にウェーハを界面活性剤を含む水溶液１３に浸漬させてウェーハ表裏面を洗浄する工程を更に含むところにある。 - 特許庁

Since the foreign material is not limited to potassium bromide and different foreign materials stick to the resist film 301 depending on conditions of various processes, it is possible to wash the resist film by using a washing liquid suitable to remove the foreign materials from the resist film 301.例文帳に追加

尚、臭化カリウムに限定されず、各種工程の諸条件に応じてレジスト膜３０１に付着する異物が異なるため、これら異物をレジスト膜３０１から除去するのに適した洗浄液を用いてレジスト膜３０１を洗浄することが可能である。 - 特許庁

Then, in a rinse tank 30, water is sprayed from a washing nozzle 32 to the surface of the substrate 41 to wash away the processing liquid for resin film removal adhering to the surface of the substrate 41.例文帳に追加

その後、水洗槽３０において、基材４１の表面に対して水洗用ノズル３２により水を吹き付け、基材４１の表面に付着した樹脂膜除去用の処理液を除去する。 - 特許庁