Tungsten hexafluorideとは 意味・読み方・使い方

Thereafter, tungsten hexafluoride gas and monosilane gas are introduced again in the vacuum chamber.例文帳に追加

この後、六フッ化タングステンガスおよび前記モノシランガスを真空チャンバ内に再び導入する。 - 特許庁

Introduction of tungsten hexafluoride gas and monosilane gas is then stopped for a predetermined time.例文帳に追加

次に、六フッ化タングステンガスおよびモノシランガスの導入をある時間にわたって停止する。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR PRODUCING TUNGSTEN HEXAFLUORIDE USING FLUIDIZATION REACTOR例文帳に追加

流動化反応器を用いる六フッ化タングステンの製造方法およびその装置 - 特許庁

To provide a method for purifying high-purity tungsten hexafluoride at a low cost enabling the easy production of tungsten hexafluoride having a purity higher than the purity attainable by conventional method.例文帳に追加

容易かつ低コストで、従来より高純度の六フッ化タングステンの製造が可能な高純度六フッ化タングステンの精製方法を提供すること。 - 特許庁

Tungsten hexafluoride gas and monosilane gas are first introduced in a vacuum chamber where the substrate is housed for a predetermined time.例文帳に追加

まず、基板が収容された真空チャンバ内に、六フッ化タングステンガスおよびモノシランガスをある時間にわたって導入する。 - 特許庁

After the W(CO)6 precursor is thermally decomposed, an additional layer of tungsten can be optionally formed thereon from the thermal decomposition of tungsten hexafluoride (WF6).例文帳に追加

Ｗ（ＣＯ）_6の先駆物質が熱分解された後、タングステンヘキサフルオライド（ＷＦ_6）の熱分解からタングステンの追加の層をその上に任意に形成することができる。 - 特許庁

Thereafter, the plasma is extinguished and tungsten hexafluoride gas is introduced in addition to the ammonia gas to grow a nitirde tungsten thin film 24 on the surface of the substrate.例文帳に追加

この後プラズマを消滅させ、アンモニアガスに加えて六フッ化タングステンガスを導入し基板表面に窒化タングステン薄膜２４を成長する。 - 特許庁

Tungsten hexafluoride containing molybdenum hexafluoride as an impurity is brought into contact with a layer filled with metal or alloy containing at least one metal selected from molybdenum, tungsten, copper, nickel, iron, cobalt, zinc, titanium, aluminum, calcium and magnesium at 0-100°C.例文帳に追加

不純物として六フッ化モリブデンを含有する六フッ化タングステンを、モリブデン、タングステン、銅、ニッケル、鉄、コバルト、亜鉛、チタン、アルミニウム、カルシウム、及びマグネシウムのうち、少なくとも一つを含む金属または合金を充填した層に０〜１００℃の温度で接触させることを特徴とする高純度六フッ化タングステンの精製方法。 - 特許庁