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X-ray stress measuring methodとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 X線応力測定法
「X-ray stress measuring method」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 10件
STRESS MEASURING METHOD BY X-RAY DIFFRACTION例文帳に追加
Ｘ線回折による応力測定法 - 特許庁
To provide a quick and precise stress measuring method and stress measuring instrument by an X-ray, with one measurement.例文帳に追加
１回の測定で迅速かつ高精度なＸ線での応力測定方法および測定装置を提供する。 - 特許庁
To provide an X-ray residual stress measuring method of castings capable of obtaining a residual stress value with high reliability, in methods for measuring a residual stress by irradiating a casting with an X-ray.例文帳に追加
鋳物にＸ線を照射してその残留応力を測定する方法にあって、信頼性の高い残留応力測定値を得ることができる鋳物のＸ線残留応力測定方法を提案する。 - 特許庁
In the method for measuring an X-ray stress, a sample 3 is held on a sample rotating mechanism 21, and hence an incident angle α of a primary X-ray 4 from an X-ray source 9 is set to 5° or below.例文帳に追加
試料３は、試料回転機構２１上に保持されており、これによりX線源９からの一次X線４の入射角度αが５°以下に設定される。 - 特許庁
To provide a residual stress measuring device and a method by X-ray causing little measuring errors even if the grain size of a measured material is unknown.例文帳に追加
被測定材料の粒度が既知でなくても、測定誤差の少ないＸ線残留応力測定装置およびその測定方法を提供する。 - 特許庁
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「X-ray stress measuring method」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 10件
An X-ray residual stress measuring method, which comprises a means for depositing a metal film of a known X-ray diffraction angle over a surface of a measured object, and a means for measuring a residual stress by irradiating the measured object surface with X rays, executes the X-ray residual stress measurement as holding the metal film deposit over the measured object surface.例文帳に追加
測定対象物の表面にＸ線回折角度が既知の金属の膜を付着させる手段と、測定対象物表面にＸ線を照射して残留応力を測定する手段とからなるＸ線残留応力測定方法において、測定対象物表面に金属膜を付着させた状態でＸ線により残留応力測定することを特徴とするＸ線残留応力測定方法。 - 特許庁
A stress distribution for calculating the strength H of the stress singular field near the contact end is determined by a molecular dynamic analysis, nano-indentation as an experimental technique, an X-ray stress measuring method, or a neutron diffraction stress measuring method.例文帳に追加
また、接触端近傍の応力特異場の強さＨを算出するための応力分布を、分子動力学解析、又は実験的手法としてナノインデンテーション、Ｘ線応力測定法、中性子回折応力測定法により求めた。 - 特許庁
To provide a method, apparatus and program for measuring a warping stress of a semiconductor chip mounted in a package by using an X-ray without destroying the package.例文帳に追加
パッケージ内に実装された半導体チップの反り応力を、パッケージを破壊することなくＸ線を用いて測定する方法と装置およびプログラム等を提供する。 - 特許庁
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