atmospheric pressure CVDとは 意味・読み方・使い方

The surface layer 115c is an inorganic oxide formed as a thin film by an atmospheric pressure plasma CVD method.例文帳に追加

表面層１１５ｃは，大気圧プラズマＣＶＤ法により薄膜形成された無機酸化物である。 - 特許庁

To provide an atmospheric pressure CVD system which can stably remove the exhaust gas with excellent balance.例文帳に追加

バランス良く、かつ安定させて排気ガスを排気させることができる常圧ＣＶＤ装置を得ること。 - 特許庁

To surely and rapidly form a single crystal, such as SiC, in an atmospheric pressure CVD process.例文帳に追加

常圧ＣＶＤ法において、ＳｉＣなどの単結晶を確実にしかも短時間で生成すること。 - 特許庁

METHOD FOR DEPOSITING FILM, METHOD FOR FABRICATING ELECTROOPTIC DEVICE, ELECTROOPTIC DEVICE, AND ATMOSPHERIC PRESSURE CVD SYSTEM例文帳に追加

成膜方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および常圧ＣＶＤ装置 - 特許庁

This is a semiconductor forming method for forming a semiconductor film on substrate by using bias catalyst CVD, high-density bias catalyst CVD, bias pressure-reduction CVD, bias atmospheric CVD.例文帳に追加

本発明は、バイアス触媒ＣＶＤ，高密度バイアス触媒ＣＶＤ，バイアス減圧ＣＶＤ，バイアス常圧ＣＶＤを利用して、基板に半導体膜を形成する半導体膜形成方法である。 - 特許庁

The surface treatment can be conducted even by the atmospheric pressure plasma CVD method using specific hydrocarbon.例文帳に追加

この表面処理は、特定の炭化水素を用いることにより大気圧プラズマＣＶＤ法でも実施することが可能となる。 - 特許庁

To form an oxide film having favorable film quality and coverage properties at a high film-forming rate by a CVD method under the atmospheric pressure.例文帳に追加

常圧下でのＣＶＤ法において、膜質・カバレージ性が良好な酸化膜を速い成膜速度で形成できるようにする。 - 特許庁

To provide an almost colorless gas barrier film capable of being manufactured by an atmospheric pressure plasma CVD method.例文帳に追加

大気圧プラズマＣＶＤ法でも作成可能な、着色のほとんど無いガスバリア性フィルムを提供すること。 - 特許庁