calcium silicideとは 意味・読み方・使い方

METHOD OF GROWING CALCIUM-SILICIDE THIN FILM例文帳に追加

カルシウムシリサイド薄膜の成長方法 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING TITANIUM DIHYDRIDE FOR MOLDING AND SINTERING USING CALCIUM SILICIDE例文帳に追加

珪化カルシウムを使用する成形焼結用二水素化チタンの製法 - 特許庁

Hydrogen is allowed to act on calcium silicide at a medium or high temperature to form calcium dihydride, and by using the nascent reducing ability of calcium formed from the calcium silicide by decomposition, titanium oxide is reduced to titanium and this titanium is further converted to stable titanium dihydride.例文帳に追加

珪化カルシウムに中高温で水素を働かせて二水素化カルシウムとし、これより分解生成するカルシウムの発生期還元能を利用して酸化チタンをチタンに還元し、さらに安定な二水素化チタンとする。 - 特許庁

The compact preferably includes one or more of calcium aluminate, calcium carbonate, limestone, fluorite, metallic calcium, and calcium silicide (Ca-Si).例文帳に追加

この成形品は、カルシウムアルミネイト、炭酸カルシウム、石灰石、蛍石、金属カルシウムおよびカルシウムシリコン（Ca-Si）の中の１種以上を含むのが望ましい。 - 特許庁

The silicon substrate on which the magnesium-silicide thin film is formed is exposed to a calcium vapor atmosphere in a closed space to cause substitution reaction between magnesium atoms and calcium atoms of the magnesium-silicide thin film, and thus growing the calcium-silicide thin film on the surface of the magnesium-silicide thin film.例文帳に追加

マグネシウムシリサイド薄膜が形成されたシリコン基板を密閉空間内でカルシウム蒸気雰囲気に曝して前記マグネシウムシリサイド薄膜のマグネシウム原子とカルシウム原子とを置換反応させることにより前記マグネシウムシリサイド薄膜表面にカルシウムシリサイド薄膜を成長させることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method of growing a thin film of single-phase calcium silicide(Ca_2Si), in which a mole ratio of Ca:Si is 2:1, on a silicon substrate via a magnesium-silicide thin film.例文帳に追加

シリコン基板にマグネシウムシリサイド薄膜を介してＣａ：Ｓｉのモル比が２：１のカルシウムシリサイド（Ｃａ_2Ｓｉ）単相の薄膜を成長する方法を提供する。 - 特許庁

A β-iron silicide crystal heterostructure is manufactured on a substrate by conducting a chemical vapor phase transportation method by setting up and sealing a polycrystalline iron silicide material, a transporting medium, a dopant material, and a substrate material composed of calcium fluoride, silicon, or iron at the crystal growing position of the substrate.例文帳に追加

多結晶鉄シリサイド原料物質、輸送媒体、ドーパント材料、および、基板材料としてフッ化カルシウム、シリコン、あるいは鉄を結晶成長位置に設置・封入して化学的気相輸送法を施すことによって、上記基板上にベータ鉄シリサイド結晶ヘテロ構造を作製する。 - 特許庁