caustic etchingとは 意味・読み方・使い方

The method for etching a silicon semiconductor wafer, after lapping with use of a chemical includes steps of filling an etching bath with an alkali chemical including caustic soda (NaOH) and caustic potash (KOH), immersing the silicon semiconductor wafer into the alkali chemical, alkali etching the surface of the silicon semiconductor wafer to make the thickness 30 μm or less, and treating the wafer with an acid chemical, prior to the alkali etching step.例文帳に追加

ラッピング後のシリコン半導体ウェーハを薬液によりエッチングする方法において、エッチング槽内に苛性ソーダ（ＮａＯＨ）及び苛性カリ（ＫＯＨ）からなるアルカリ薬液を満たし、シリコン半導体ウェーハをそのアルカリ薬液に浸漬し、シリコン半導体ウェーハの表面を３０μｍ以下アルカリエッチングし、しかも、そのアルカリエッチングの処理前に酸薬液で酸処理する。 - 特許庁

In this method of manufacturing a high purity caustic soda aqueous solution for wafer etching, a caustic soda aqueous solution is contacted with an active carbon activated by immersion treatment in nitric acid, and its iron content is reduced to not higher than 200 ppb, and its nickel content to not higher than 20 ppb.例文帳に追加

苛性ソーダ水溶液を硝酸に浸漬処理して賦活した活性炭と接触させて、その含有鉄分を２００ｐｐｂ以下に、ニッケル分を２０ｐｐｂ以下になるまで除去することを特徴とするウエーハエッチング用高純度苛性ソーダ水溶液の製造方法。 - 特許庁

The contamination of silicon wafers with metals is tightly controlled by using an aqueous solution of caustic soda containing carbonates in etching.例文帳に追加

カルボン酸塩類を含有させた苛性ソーダ水溶液をシリコンウエハーのエッチングに供することで、シリコンウエハーの金属汚染を大幅に抑制できる。 - 特許庁

The contamination of silicon wafers with metals is tightly controlled by using an aqueous solution of caustic soda containing phenols in etching.例文帳に追加

フェノール類を含有させた苛性ソーダ水溶液をシリコンウエハーのエッチングに供することで、シリコンウエハーの金属汚染を大幅に抑制できる。 - 特許庁

To provide an aluminum alloy extrusion material whose surface can uniformly be subjected to embossing treatment by only performing etching treatment using a commonly used sodium hydroxide aqueous solution (a caustic soda bath).例文帳に追加

常用されている水酸化ナトリウム水溶液（苛性ソーダ浴）を用いてエッチング処理するだけで、アルミニウム合金押出材の表面を均一に梨地処理できる押出材の提案を目的とする。 - 特許庁

To provide a method of commercially manufacturing a high purity caustic soda aqueous solution which is reduced in iron and nickel content to the level capable of using as an etching agent of silicon wafer at a low cost.例文帳に追加

シリコンウエーハのエッチング剤として使用できるレベルにまで鉄分およびニッケル分を除去した高純度の苛性ソーダ水溶液を、低コストで工業的に製造する方法を提供すること。 - 特許庁

The inner structure of the syringe comprises special materials, especially glass, plastics, quartz and/or corundum, and the surface is reformed by an etching agent, e.g. acid or caustic alkali solution, especially the chromic acid mixture, uninterruptedly after removal of the etching agent and cleaning of the syringe, and the surface of the syringe inner structure is especially sterilized by a pressurized heating process according to circumstances.例文帳に追加

注射器の内部構造は特別な材料、特にガラス、プラスチック、石英および／またはコランダム、からなり、その表面は特にエッチング剤、例えば酸または苛性アルカリ溶液、特にクロム硫酸で改質され、引き続きエッチング剤の除去と注射器の洗浄後に場合によっては注射器内部構造の表面が、特に加圧熱処理によって、滅菌される。 - 特許庁