critical illuminationとは 意味・読み方・使い方

To provide an illumination optical system for microscope which allows the state of illumination to continuously change between Koehler illumination and critical illumination, and can always obtain illumination and brightness suitable for observation.例文帳に追加

照明状態をケーラ照明とクリティカル照明の間で連続的に変化させることができ、常に観察に適した照野と明るさを得ることの出来る顕微鏡用照明光学系を提供すること。 - 特許庁

The illumination optical system 20A is constituted so that the illumination system in the longitudinal direction (X direction) of the illumination region R becomes Koehler illumination, and that the illumination system in the short direction (Y direction) of the illumination region R becomes critical illumination.例文帳に追加

照明光学系２０Ａは、照明領域Ｒの長手方向（Ｘ方向）における照明方式がケーラー照明となるように構成されており、照明領域Ｒの短手方向（Ｙ方向）における照明方式がクリティカル照明となるように構成されている。 - 特許庁

To provide a system and method to compensate for critical dimension non-uniformity caused by different polarization directions of an illumination beam.例文帳に追加

照明ビームの異なる偏光方向により引き起こされる最小寸法の不均一性を補償するシステムを提供する。 - 特許庁

To provide an illumination optical system which achieves uniform illuminance distribution on an object surface to be illuminated by combining a light beam from an integrating sphere and a light beam generated by a critical illumination method.例文帳に追加

積分球からの射出光と、クリティカル照明法とを組み合わせることで、被照射面上での均一な照度分布を達成する照明光学系を提供する。 - 特許庁

Thus, the image of a uniform plane light source free from irregular luminance occurring at the emitting end of the rod integrator 3 is formed on the observation surface of the sample so as to achieve critical illumination, thereby performing observation in such a state where the depth of focus is shallow in comparison with Koehler illumination.例文帳に追加

これによりロッドインテグレータ３の射出端に生じる輝度ムラの無い均一な平面状光源を試料の観察面に結像しクリティカル照明が実現され、ケーラー照明に比べて焦点深度の浅い状態での観察ができる。 - 特許庁

After the exposure amount of the diffraction light L1 reaches the saturation exposure amount Esat and before the exposure amounts of the diffraction lights L-1 and L2 exceed the critical exposure amount Ecri, the radiation of the reproducing illumination light L is finished.例文帳に追加

回折光Ｌ１の露光量が、飽和露光量Ｅsat に達した後、かつ、回折光Ｌ−１やＬ２の露光量が、臨界露光量Ｅcri を超える前に、再生用照明光Ｌの照射を終了する。 - 特許庁

A critical pitch relative to an IC design is specified, and the optimal inner radial coordinate σ_inner and the optimal outer radial coordinate σ_outer of an annular illumination light source are determined so that an image projected through a mask is optimized throughout the pitch range in a design layout.例文帳に追加

ＩＣ設計について臨界ピッチを特定し、マスクを通して投影された像が設計レイアウト内のピッチの全範囲に関して最適化されるように輪帯照明光源の最適な内側半径座標σ_innerおよび外側半径座標σ_outerを決定する。 - 特許庁