dissociation energyとは 意味・読み方・使い方

The oxygen-absorbing resin composition comprises a resin (A) bearing a C-H bond having a bond dissociation energy of at most 3.70 eV and a resin (B) bearing a C-H bond having a bond dissociation energy of more than 3.70 eV and not more than 4.20 eV.例文帳に追加

結合解離エネルギーが３．７０ｅＶ以下のＣ−Ｈ結合を有する樹脂（Ａ）と結合解離エネルギーが３．７０ｅＶを超え且つ４．２０ｅＶ以下のＣ−Ｈ結合を有する樹脂（Ｂ）とを含有してなる酸素吸収性樹脂組成物。 - 特許庁

When an electron beam with high energy is made incident, a plasma PBa consisting of gas molecules that requires high activation energy for ionization or dissociation is formed efficiently.例文帳に追加

高いエネルギーの電子ビームが入射すると、電離または解離に高い活性化エネルギーを必要とするガス分子から成るプラズマＰＢａを効率良く生成する。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus capable of easily controlling the plasma electronic energy distribution in accordance with the kind of dissociated gas molecules or its dissociation energy.例文帳に追加

解離させるガス分子の種類やその解離エネルギーに応じてプラズマの電子エネルギー分布を容易に制御することができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

After selecting a plurality of candidate peptides by an existing software, each dissociation energy of all fragment ions is determined theoretically relative to each candidate peptide (S14), and a correlation coefficient for showing correlation between each dissociation energy and the fragment ion intensity acquired from a measured mass spectrum is calculated (S15).例文帳に追加

既存のソフトウエアにより複数の候補ペプチドを選定した後、それぞれの候補ペプチド毎に、全てのフラグメントイオンの解離エネルギーを理論的に求め（Ｓ１４）、各解離エネルギーと実測の質量スペクトルから得られるフラグメントイオン強度との相関性を示す相関係数を計算する（Ｓ１５）。 - 特許庁

In a plasma space 22 formed in the plasma CVD apparatus, a film containing a larger quantity of an element using the gaseous starting material having a smaller dissociation energy as the source is formed in the upstream part 22a of the plasma space 22 and a film containing a larger quantity of an element using the gaseous starting material having a larger dissociation energy is formed in the downstream part 22b of the plasma space 22.例文帳に追加

プラズマＣＶＤ装置１０内に形成されるプラズマ空間２２において、原料ガスの解離エネルギーの差によって、プラズマ空間２２の上流部２２ａにおいては、解離エネルギーが小さい原料ガスをソースとする元素が多く含まれる膜が形成され、プラズマ空間２２の下流部２２ｂにおいては、解離エネルギーが大きい元素ガスをソースとする元素が多く含まれる膜が形成される。 - 特許庁

The energy-emitting element functions at a low output level to prevent additional dissociation of decaborane molecules evaporated by the plasma itself, by minimizing the plasma density in the ion chamber.例文帳に追加

エネルギー放出要素が低出力レベルで作動し、イオン室内のプラズマ密度を最小にして、プラズマ自体によって蒸発したデカボラン分子の付加的な解離を防止する。 - 特許庁

To provide a neutral particle irradiation type CVD apparatus capable of suppressing gas dissociation due to high-energy electrons or UV light and forming an excellent film having a planned molecular structure.例文帳に追加

高エネルギーの電子やＵＶ光によるガスの解離を抑制でき、予定通りの分子構造を有する良質な膜を形成することが可能な中性粒子照射型ＣＶＤ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device film forming method using neutral particles, which can suppress gas dissociation due to high-energy electrons or UV light and can form an excellent film having a planned molecular structure.例文帳に追加

高エネルギーの電子やＵＶ光によるガスの解離を抑制でき、予定通りの分子構造を有する良質な膜を形成することが可能な中性粒子を用いた半導体装置の成膜方法を提供する。 - 特許庁