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dry cleaning equipmentとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 乾式洗浄装置
「dry cleaning equipment」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 10件
DRY CLEANING EQUIPMENT USED IN MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
半導体素子製造に使用される乾式クリーニング装置 - 特許庁
This is a method of forming a solar cell substrate performing ultrasonic cleaning after coarsening one main surface side of a solar cell substrate by a dry etching method, and the ultrasonic cleaning is performed by horn type ultrasonic cleaning equipment.例文帳に追加
太陽電池基板の一主面側をドライエッチング法で粗面状にした後に超音波洗浄する太陽電池基板の形成方法であって、上記超音波洗浄をホーン型超音波洗浄装置で行う。 - 特許庁
To obtain a water-repellent composition for dry cleaning capable of easily making a water-repellent finishing on textile products by using conventional dry cleaning equipment, slight in a foaming property, high in a water- repellent performance and having no concern to cause environmental pollution.例文帳に追加
従来のドライクリーニング設備を用いて繊維製品に簡単に撥水加工ができるとともに、泡立ちが少なくかつ撥水性能に優れしかも環境汚染を生じるおそれのないドライクリーニング用撥水剤組成物を提供する。 - 特許庁
In the mounting system 1, cleaning equipment 12 for dry-cleaning flexible board, IC mounting equipment 13 for mounting IC chips using adhesive material containing conductive particles, and small part mounting equipment 14 for mounting small parts using adhesive material containing solder component, are adjacently installed, and automatic transport is carried out between these pieces of equipment by conveyors.例文帳に追加
実装システム１において、可撓性を有する基板をドライ洗浄する洗浄装置１２、導電性粒子を含む接着材料を用いてＩＣチップを実装するＩＣ実装装置１３、および、はんだ成分を有する接着材料を用いて小型部品を実装する小型部品実装装置１４を隣接配置し、これらの装置間でコンベアによる自動搬送を行う。 - 特許庁
The substrate-treatment equipment comprises a wet treatment section 2 for performing chemical treatment on a substrate S, and a pretreatment section 1 for performing pretreatment, such as, dry cleaning on the substrate S.例文帳に追加
基板処理装置は、基板Ｓに薬液処理を施すウエット処理部２と、その前処理としてドライ洗浄等の処理を基板Ｓに施す前処理部１とを有する。 - 特許庁
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「dry cleaning equipment」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 10件
To provide a surface treatment method by which the adhesiveness of a coating can be improved so that the adhesiveness of a coating to both wet and dry conditions can be satisfied and the same to strong alkali cleaning may be satisfied without necessitating costly equipment and safety measures.例文帳に追加
高価な設備や安全対策を要求することなく、ドライ、ウェット双方の状態に対する塗膜密着性を満足でき、さらには強アルカリ洗浄に対しても満足できるように、塗膜の密着性を向上させることができる表面処理方法を提供する。 - 特許庁
The equipment for cleaning a semiconductor substrate such as a wafer (W) comprises a processing chamber 100, a rotatable supporting section 200 arranged in the processing chamber 100 and being arranged with the semiconductor substrate, a nozzle 400 for supplying organic solvent, and a dry gas supply nozzle 500 for supplying organic solvent in vapor state into the processing chamber.例文帳に追加
ウェーハ（Ｗ）などの半導体基板を洗浄する装置であって、処理室１００と、前記処理室内１００に配置され、前記半導体基板を配置するための回転可能な支持部２００と、有機溶剤を供給するための有機溶剤供給ノズル４００と、前記処理室内に蒸気状態の有機溶剤を供給するための乾燥ガス供給ノズル５００と、を含むことを特徴とする洗浄装置。 - 特許庁
To lower the equipment cost of a gasification furnace or the like, facilitate the operation of the gasification furnace or the like and recover inflammable fuel gas of the largest possible quantity of heat by simplifying and quickening a cleaning operation of high temperature gas piping used, for example, in a gasifier for generating inflammable gas by dry distillation of waste plastic, and vehicle scrap and household appliance waste shredder dust.例文帳に追加
廃プラスチックや廃車、廃家電シュレッダーダストの乾留により可燃性ガスを生成させるガス化装置等に使用する高温ガス用配管の清掃作業の簡素化と迅速化を図り、ガス化炉等の設備コストを削減し、ガス化炉等の運転を容易とし、可能な限り熱量の大きな可燃性の燃料ガスを回収する。 - 特許庁
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