electroforming patternとは 意味・読み方・使い方

The Ni-W electroforming solution for a molding die is used when a molding die, used for molding a molded article having a surface with a rugged pattern, is produced by electroforming.例文帳に追加

また、環境負荷の小さい成分を含有する成形金型用Ｎｉ−Ｗ電鋳液およびこれを用いた成形金型の製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

The mold duplicating method comprises a vapor-deposited film forming step for forming a vapor-deposited film on the irregular pattern face of a finished product formed by a stamper mold, and an electroforming step for manufacturing a second stamper mold with a reverse irregular pattern formed by electroforming on the irregular pattern face, of the finished product, on which the vapor-deposited film is formed.例文帳に追加

スタンパ金型により成形された製品の凹凸パターン面に蒸着膜を形成する蒸着膜形成工程と、蒸着膜が形成された製品の凹凸パターン面に電鋳により逆凹凸パターンを備えた第二のスタンパ金型を製造する電鋳工程と、を備える。 - 特許庁

An electroforming die 12 for forming a lattice pattern composed of nickel or nickel-phosphor is formed with a matrix 10 formed of a glass material.例文帳に追加

ガラス材で形成されている母型１０でニッケルあるいはニッケル燐からなる格子パターン形成用電鋳金型１２を電鋳法で形成する。 - 特許庁

Nickel electroforming is carried out simultaneously to both faces while the pattern is used as a cathode, whereby nickel layers 12 and 13 are formed (Fig. (E)).例文帳に追加

これを陰極としてニッケル電鋳を両面同時に行い、ニッケル層１２，１３を形成する（図２（Ｅ））。 - 特許庁

The gear 2 having the spring sections 4 is manufactured by electroforming with high precision using a high-precision pattern drawn on a photomask.例文帳に追加

このようなバネ部４を有する歯車２は、フォトマスクに描かれた高精度なパターンを使用して、電鋳により精度良く製造される。 - 特許庁

METHOD FOR CONTROLLING CROSS-SECTIONAL SHAPE OF PHOTOSENSITIVE RESIN PATTERN, ELECTROFORMING DIE USING THE SAME, MICROCHEMICAL CHIP, DNA CHIP, AND MEMS PRODUCT例文帳に追加

感光性樹脂パターンの断面形状制御法、およびそれを用いた電鋳金型、マイクロ化学チップ、ＤＮＡチップおよびＭＥＭＳ製品 - 特許庁

STRIP-LIKE TRANSFER DIE FOR PATTERN TRANSFER, ELECTROFORMING ROLL FOR STRIP-LIKE TRANSFER DIE AND METHOD FOR MANUFACTURING THEM例文帳に追加

紋様転写用の帯状転写型材、帯状転写型材用の電鋳ロールおよびそれらの製造方法 - 特許庁

To provide a method of manufacturing electroforming mold by which the need of precise mask positionings when a first pattern layer and a second pattern layer are formed is eliminated and the displacement of the first pattern layer and the second pattern layer is hardly caused.例文帳に追加

１層目のパターンを形成するときと２層目のパターンを形成するときのマスクの正確な位置合わせが不要となり、しかも、１層目のパターンと２層目のパターンの位置ずれがほとんど生じることがない。 - 特許庁