equal temperature processとは 意味・読み方・使い方

In a gel drying process, the particle dispersion layer and the coating layer are dried for a prescribed time at a temperature equal to or below the temperature T1.例文帳に追加

ゲル乾燥工程において、粒子分散層および被覆層は、温度Ｔ１以下の温度で所定の時間乾燥される。 - 特許庁

In the process of the thermal treatment in the inert atmosphere, it is desirable that the thermal treatment temperature is nearly equal to the thermal treatment temperature in the oxidizing atmosphere.例文帳に追加

不活性雰囲気中で熱処理する工程において、熱処理温度を、酸化雰囲気中での熱処理温度と略同一にするのが好ましい。 - 特許庁

Then, annealing is conducted at a temperature at least equal to a bonded interface strengthening temperature (Tr) used in a following process but less than 450°C.例文帳に追加

次に、その後の結合界面強化温度（Ｔｒ）に少なくとも等しいが４５０℃未満の温度でアニーリングする。 - 特許庁

A cooling temperature in the forced cooling process is preferably equal to a solidification temperature of the dispersion or higher and ≤30°C.例文帳に追加

強制冷却する工程の冷却温度は、分散体の凝固温度以上３０℃以下であることが好ましい。 - 特許庁

The method of manufacturing the STN liquid crystal display device includes a process of low temperature treatment at such a low temperature as not to cause the phase transition of a liquid crystal material, after an injection process and a sealing process of the liquid crystal material and a process of heat treatment at a temperature equal to or higher than the isotropic temperature of the liquid crystal material.例文帳に追加

液晶材料の注入工程と封止工程および液晶材料の等方性温度以上の温度における熱処理工程の後に、液晶材料が相変化しない程度の低温における低温処理工程を有することを特徴とするＳＴＮ液晶表示装置の製造方法。 - 特許庁

The reheat-adhesion is performed in the first process or plural processes, while the condition of the heating temperature and adhesion force at each process is preferably equal to or higher than the previous process in the second process or later.例文帳に追加

また再加熱圧着を１工程又は複数の工程で行い、第２工程以降では、各工程に於ける加熱温度及び圧着力の条件を前工程と同等か、又は高くすることが好ましい。 - 特許庁

For example, when the supercritical fluid contains carbon dioxide stated in supercritical condition, the high temperature process is executed at a temperature equal to about 80°C or higher, and this is a temperature higher than a critical temperature of about 31°C.例文帳に追加

例えば、超臨界流体が超臨界状態にある二酸化炭素を含むとき、高温プロセスは、８０℃にほぼ等しいか、または８０℃より高い温度で実行され、これは、約３１Ｃの臨界温度より高い温度である。 - 特許庁

The amorphous thin film 12 has resistance to a process performed at a temperature equal to or more than 300°C when the microcrystal thin film 13 having the cubic structure is formed.例文帳に追加

前記非晶質薄膜１２は、立方晶構造を有する微結晶薄膜１３を形成する際の３００℃以上のプロセスに耐性を有する。 - 特許庁