full annealingとは 意味・読み方・使い方

To provide a laser annealing device that easily achieves crystallization in a full-melt method and crystallization in a partial-melt method through single-time laser irradiation.例文帳に追加

フルメルト法による結晶化とパーシャルメルト法による結晶化を１回のレーザ照射によって簡単に実現することが可能なレーザアニール装置を提供する。 - 特許庁

By controlling the transformation temperature of Mo-containing medium-carbon martensitic stainless steel material and wire rod, tempering or full annealing treatment is performed in the α+γ+K23C6 coexistence phase of 750 to 850°C to regulate Hv hardness to ≤220 and improve the manufacture efficiency of screws and nails.例文帳に追加

Ｍｏを含有する中炭素マルテンサイトステンレス鋼材及び線材の変態温度を制御することにより７５０℃〜８５０℃のα＋γ＋Ｋ２３Ｃ６の共存相の中で焼き戻し又は完全焼鈍処理して、ＨＶ硬度を２２０以下にして、ねじ及び釘の製造性を向上させる。 - 特許庁

Further, full annealing by which recrystallization occurs is performed to form a metallic structure in which the existence of coarse grains with a grain size >5 times the average grain size is ≤10 pieces per width of 10 mm or a metallic structure in which the standard deviation of the grain sizes is ≤70% of the average grain size.例文帳に追加

更に、再結晶の生じる完全なまし焼鈍を施して、平均結晶粒径の５倍を超える粗大粒の存在量が10mm幅あたり10個以下である金属組織とするか、結晶粒径の標準偏差が平均結晶粒径の70％以下である金属組織とする。 - 特許庁

A method for manufacturing a thin film transistor implants phosphorus ions on a polysilicon thin film at high concentration when manufacturing the NMOS polysilicon thin film transistor, next, activates them by furnace annealing treatment, then, implants the phosphorus ions on the polysilicon thin film at low concentration, and then obtains an inventive product having Vg-Id characteristics shown in a full line by activating them by heat treatment in a high pressure water vapor atmosphere.例文帳に追加

ＮＭＯＳポリシリコン薄膜トランジスタの製造に際し、ポリシリコン薄膜にリンイオンを高濃度で注入し、次いで炉アニール処理による活性化を行ない、次いでポリシリコン薄膜にリンイオンを低濃度で注入し、次いで高圧水蒸気雰囲気中での熱処理による活性化を行なったところ、実線で示すＶｇ−Ｉｄ特性を有する本発明品が得られた。 - 特許庁