i line lithographyとは 意味・読み方・使い方

To provide an inexpensive pellicle film suited to a lithography process of applying ultraviolet light including i line, h line and g line and having a wavelength region of 350-450 nm, and having light resistance.例文帳に追加

ｉ線、ｈ線、ｇ線を含む、３５０〜４５０ｎｍの波長域の紫外線を照射するリソグラフィ工程に好適な、安価で耐光性に優れたペリクル膜を提供する。 - 特許庁

To improve use efficiency of light in entire lithography by efficiently utilizing excessive spectra generating at shorter wavelengths than i-line without abandoning.例文帳に追加

ｉ線より短波長において発生した余分なスペクトルを捨てることなく効率よく利用することにより、リソグラフィ全体の光の利用効率を向上させる。 - 特許庁

To provide a cleaning liquid for lithography showing uniformly favorable cleaning property for resists in various kinds and types of compositions such as resists for i-line specification, KrF specification or ArF specification, a silicon-containing resist and a chemically amplified positive resist, having preferable drying property after the process and causing no damage to characteristics of the resist by cleaning.例文帳に追加

ｉ線仕様、ＫｒＦ仕様、ＡｒＦ仕様の各種レジスト、ケイ素含有レジスト、化学増幅型ポジ型レジストなど多種多様の組成のレジストに対して一様に良好な洗浄性を示し、処理後の乾燥性が良く、洗浄によりレジストの特性がそこなわれることのないリソグラフィー用洗浄液を提供する。 - 特許庁