ion plasma frequencyとは 意味・読み方・使い方

In a plasma etching apparatus, a first high frequency for plasma generation and a second high frequency for ion attraction are applied from high frequency power sources 32 and 34 to a susceptor 12, respectively.例文帳に追加

このプラズマエッチング装置においては、高周波電源３２，３４よりプラズマ生成用の第１高周波およびイオン引き込み用の第２高周波がサセプタ１２に重畳して印加される。 - 特許庁

In the capacity coupling type plasma etching device, a first plasma-generating high frequency and a first ion-drawing high frequency are applied from first and second high frequency power supplies 30 and 32 to a susceptor 12 respectively.例文帳に追加

この容量結合型プラズマエッチング装置において、サセプタ１２には第１および第２の高周波電源３０，３２よりプラズマ生成用の第１高周波、イオン引き込み用の第１高周波がそれぞれ印加される。 - 特許庁

The high frequency power supply 24 supplies high frequency power by pulse controlling to the plasma generating antenna 22 so that non-steady-state plasma may be generated repeatedly in the ion generating tube 21.例文帳に追加

高周波電源２４は、イオン発生管２１においてプラズマの非定常状態を繰り返し発生するように、プラズマ発生用アンテナ２２に、高周波電力をパルス制御して供給する。 - 特許庁

A substrate W to be treated is placed on a susceptor 16 of a lower electrode, and wave of a first high frequency for plasma generation is applied from a high-frequency power source 30, and wave of a second high frequency for ion extraction is applied from a high-frequency power source 70.例文帳に追加

下部電極のサセプタ１６には被処理基板Ｗが載置され、高周波電源３０よりプラズマ生成用の第１高周波が印加され、高周波電源７０よりイオン引き込み用の第２高周波が印加される。 - 特許庁

By using a high-frequency power source device for plasma generation, argon gas is dissociated into argon plus ion (Ar^+) and electron.例文帳に追加

プラズマ発生用高周波電源装置を用い、アルゴンガスをアルゴンプラスイオン（Ａｒ^＋）と電子に解離させる。 - 特許庁

In this ion beam generating method, laser light having a wavelength of 1083 nm is irradiated into the helium plasma generated by high frequency discharge to carry out optical pumping.例文帳に追加

イオンビーム発生方法は、高周波放電によるヘリウムプラズマ中に波長１０８３ｎｍのレーザ光を照射して光ポンピングする。 - 特許庁

To reduce the frequency of replacement of a peripheral member which is consumed by ion irradiation of a plasma, and to stabilize the process characteristics.例文帳に追加

プラズマのイオン照射により消耗した周辺部材の交換頻度を減らし、プロセス特性の安定化を図る。 - 特許庁

To suppress electrification as small on the base plate surface during the period of an ion beam radiation while HF(High Frequency) discharge-type plasma generation equipment is in use.例文帳に追加

高周波放電型のプラズマ発生装置を用いつつ、イオンビーム照射の際の基板表面の帯電を小さく抑制する。 - 特許庁