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iridium filmとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 イリジウム膜; イリジウム皮膜
「iridium film」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 101件
IRIDIUM-CONTAINING FILM DEPOSITION MATERIAL, AND METHOD FOR PRODUCING IRIDIUM-CONTAINING FILM例文帳に追加
イリジウム含有膜形成材料及びイリジウム含有膜の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING THIN FILM OF METALLIC IRIDIUM AND/OR IRIDIUM OXIDE例文帳に追加
金属イリジウム及び/又はイリジウム酸化物薄膜の製造方法 - 特許庁
That means, an unsaturated iridium oxide film is formed.例文帳に追加
即ち、不飽和のイリジウム酸化膜を形成する。 - 特許庁
As the upper electrode film 23, for example, an iridium oxide film is formed.例文帳に追加
上部電極膜23としては、例えばイリジウム酸化膜を形成する。 - 特許庁
Then, on the entire upper surface of the wafer 101, a titanium nitride film 131, an iridium film 133 and an iridium oxide film 135 are successively formed.例文帳に追加
次に、このウエーハ101の上方全面に窒化チタン膜131と、イリジウム膜133と、酸化イリジウム膜135とを順次形成する。 - 特許庁
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「iridium film」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 101件
Above all things, a buffer layer obtained by forming a metal or metal oxide thin film (iridium thin film or iridium oxide thin film) is preferable.例文帳に追加
中でも金属又は金属酸化物の薄膜(イリジウム薄膜又は酸化イリジウム薄膜など)を形成したものが好ましい。 - 特許庁
Regarding this iridium oxide film, the (110) crystal face is selectively oriented.例文帳に追加
(110)結晶面が選択的に配向したイリジウム酸化膜である。 - 特許庁
ORGANIC IRIDIUM COMPOUND, METHOD FOR PRODUCING THE COMPOUND AND METHOD FOR PRODUCING FILM例文帳に追加
有機イリジウム化合物、その製法、及び膜の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING IRIDIUM THIN FILM USING CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD例文帳に追加
化学気相成長法を用いたイリジウム薄膜の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING IRIDIUM-CONTAINING THIN FILM BY CHEMICAL VAPOR PHASE GROWTH METHOD例文帳に追加
イリジウム含有薄膜の化学気相成長法による製造方法 - 特許庁
RAW MATERIAL COMPOUND FOR CVD, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND CVD PROCESS FOR IRIDIUM OR IRIDIUM COMPOUND THIN FILM例文帳に追加
CVD用原料化合物及びその製造方法並びにイリジウム又はイリジウム化合物薄膜の化学気相蒸着方法 - 特許庁
RAW MATERIAL COMPOUND FOR CVD, AND METHOD OF VACUUM CHEMICAL VAPOR DEPOSITION FOR IRIDIUM OR IRIDIUM COMPOUND THIN FILM例文帳に追加
CVD用原料化合物及びイリジウム又はイリジウム化合物薄膜の化学気相蒸着方法 - 特許庁
The lamination of Ir (iridium)/IrO_2 (iridium oxide)is comprised on an interior wall as a barrier metallic film 131 in the via-hole connecting section 13.例文帳に追加
ビアホール接続部13内部は、内壁にバリア金属膜131としてIr(イリジウム)/IrO_2(酸化イリジウム)の積層を含む。 - 特許庁
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