island formationとは 意味・読み方・使い方

The semiconductor device includes: a first island-like reinforcement film over a substrate having flexibility; a semiconductor film including a channel formation region and an impurity region over the first island-like reinforcement film; a first conductive film over the channel formation region with a gate insulating film interposed therebetween; and a second island-like reinforcement film covering the first conductive film and the gate insulating film.例文帳に追加

可撓性を有する基板上に設けられた第１の島状の補強膜と、第１の島状の補強膜上に、チャネル形成領域と不純物領域とを具備する半導体膜と、チャネル形成領域の上方にゲート絶縁膜を介して設けられた第１の導電膜と、第１の導電膜及びゲート絶縁膜を覆って設けられた第２の島状の補強膜とを有している。 - 特許庁

In the manufacturing method of the TFT LCD pixel unit, in addition to formation of a first insulating layer (gate insulating layer) and a passivation layer, a second insulating layer is adopted to cover a gate island and an opening part is formed such that a channel region, a source region and a drain region of the TFT are exposed on the gate island.例文帳に追加

第一の絶縁層（ゲート絶縁層）及びパッシベーション層を形成する事に加えて、第二の絶縁層でゲート・アイランドが覆われ、ゲート・アイランド上にＴＦＴのチャネル領域、ソース領域、ドレイン領域が露出されるように開口部を形成する。 - 特許庁

In the method for manufacturing a solar cell 100, a metal mask M3 has two openings H3 corresponding to a formation pattern of two island-shaped n-type amorphous semiconductor layers 12n_1, and an opening H4 corresponding to a formation pattern of a p-type amorphous semiconductor layer 12p.例文帳に追加

本実施形態に係る太陽電池１００の製造方法において、メタルマスクＭ３は、２本の島状ｎ型非晶質半導体層１２ｎ_１の形成パターンに応じた２つの開口部Ｈ３と、ｐ型非晶質半導体層１２ｐの形成パターンに応じた開口部Ｈ４とを有する。 - 特許庁

The manufacturing cost can be suppressed by forming the island semiconductor film which is to be the channel formation region and the semiconductor film which is to be the source region or the drain region without using a doping device.例文帳に追加

チャネル形成領域となる島状半導体膜とソース領域又はドレイン領域となる半導体膜をドーピング装置を用いないで形成することにより、製造コストを抑制することができる。 - 特許庁

A green layer 3 is arranged as an island-shaped green pixel formation part 3G at opening parts 1G and 2G for green pixels of the red layer 1 and blue layer 2.例文帳に追加

緑色層３をアイランド状の緑色画素形成部３Ｇとして、赤色層１と青色層２の緑色画素用開口部１Ｇ及び２Ｇにそれぞれ配置する。 - 特許庁

It is also possible to simplify a manufacturing process by forming a channel formation region simultaneously with a low concentration side isolation layer, and an island lower region simultaneously with a high concentration side isolation layer.例文帳に追加

チャネル形成領域を低濃度側分離層と、島下部領域を高濃度側分離層と同時に形成し、製造プロセスの簡単化を図ることもできる。 - 特許庁

An active layer (island-like semiconductor film) is arranged so that at least a channel formation region is accommodated inside one single crystal particle, for improved electric characteristics of a TFT.例文帳に追加

そして、一つの結晶粒の内部に少なくともチャネル形成領域が収まるように活性層（島状半導体膜）の配置を設計することで、ＴＦＴの電気特性を向上させることが可能となる。 - 特許庁

An island region of an epitaxial layer is isolated by a high concentration side isolation layer and a low concentration side isolation layer, and breakdown voltage is improved by forming a channel formation region with the same impurity concentration as a low concentration side isolation layer.例文帳に追加

エピタキシャル層の島領域を高濃度側分離層と低濃度側分離層により分離し、低濃度側分離層と同じ不純物濃度をもったチャネル形成領域を形成して、素子耐圧の向上を図る。 - 特許庁