local heat treatmentとは 意味・読み方・使い方

To provide a filament lamp mounted on an optical irradiation type heat-treatment device capable of uniformly heating a treated object and downsizing, even if a local distribution of degrees of temperature change on a substrate-like treated object under heat treatment is asymmetrical to a substrate shape.例文帳に追加

熱処理される基板状の被処理物上における場所的な温度変化の度合いの分布が基板形状に対し非対称であっても、被処理物を均一に加熱することができるとともに、また小型化可能な光照射式加熱処理装置に搭載されるフィラメントランプを提供することを目的とする。 - 特許庁

A local heat treating device for piping and vessels is composed by using a personal computer 1, or the like, setting up and setting are performed in accordance with indication on the picture of the personal computer 1, and automatic operation is performed in accordance with a heat treating program pattern, so that the reliability of heat treatment for removing welding residual stress can be improved.例文帳に追加

パーソナルコンピュータ１などを用いて配管・容器局部熱処理装置を構成し、パーソナルコンピュータ１画面上の指示に従い段取りし、設定し、熱処理プログラムパターンに従い自動運転することにより溶接残留応力除去熱処理の信頼性向上を図る。 - 特許庁

To provide a laminated metal sheet for a can lid excellent not only in general processability such as score processing or the like but also in processability in local bending processing performed after heat treatment.例文帳に追加

スコア加工などの一般加工性だけなく、熱処理後に行われる局部曲げ加工での加工性にも優れた缶蓋用ラミネート金属板を提供する。 - 特許庁

To provide a method for hardening a local part of a golf club head to its core by heat treatment without forming a coating layer on the surface.例文帳に追加

ゴルフクラブヘッドの局部を、表面に被覆層を作るのではなく、熱処理によりその芯まで硬化させることができる方法を提供しようとすることを目的とする。 - 特許庁

In the manufacturing method, a rapid thermal annealing (RTA, local heating) is conducted only to desired spots using a lamp (typically, a halogen lamp) for heat treatment.例文帳に追加

本発明は、所望の箇所にのみ加熱処理を行うランプ（代表的にはハロゲンランプ）を用いた瞬間熱アニール（ＲＴＡ、局所加熱）を行う。 - 特許庁

By setting stress controlling stage after a drawing stage and before a trimming/piercing stage, residual stress is removed by applying the local heat treatment to a portion of a primary formed part W1 after the drawing stage.例文帳に追加

ドロー工程の後であってトリム・ピアス工程の前に応力制御工程を設定して、ドロー工程後の一次成形品Ｗ１の一部に局部加熱処理を施して残留応力を除去する。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for a heat treatment, capable of efficiently and continuously processing a plurality of substrates by preventing a damage on the substrates or deflection of them which is caused by an abrupt temperature changes or local heating.例文帳に追加

急激な温度変化や局部的な加熱等による被処理基板へのダメージや被処理基板の反りを防止し、複数の被処理基板を連続的に効率よく処理することができる熱処理装置および熱処理方法を提供すること。 - 特許庁

When a conductive paste 3 to which an aluminum-silicon alloy has been added in advance is used in silicon in a semiconductor substrate 1, a eutectic mixture of aluminum with silicon is not newly formed in heat treatment and, consequently, a local deeply penetrated part is not formed under an electrode 4.例文帳に追加

半導体基板１のシリコンに対して、予めアルミニウム−シリコン合金が添加された導電性ペースト３を使用することにより、熱処理で新たにアルミニウムとシリコンとの共融混合物が作られ難くなって、電極４下に局所的に深い浸透部分が形成されない。 - 特許庁