low of intermediate metalとは 意味・読み方・使い方

To provide a low pressure casting apparatus with which a cast product having further stable quality can be obtained by restraining the lowing of molten metal temperature in an intermediate stoke in the low pressure casting apparatus so as to cast the molten metal without heating from the outer part.例文帳に追加

低圧鋳造装置の中間ストーク内での溶湯の温度低下を抑制、外部から加熱することなく鋳造を行うことが出来るようにすることで、より品質の安定した鋳造製品が得られる低圧鋳造装置を提供することにある。 - 特許庁

The heat sink 50 comprises a substrate 51 containing a metal having low coefficient of thermal expansion and Cu and having surface roughness R1 of 1-5 μm, an intermediate layer 52 formed on the surface 54 of the substrate 51, and a thin diamond film layer 53 formed on the surface of the intermediate layer 52.例文帳に追加

ヒートシンク５０は、低熱膨張係数の金属とＣｕとを含み、その表面の粗さＲ_Z が１μｍ以上５μｍ以下である基板５１と、基板５１の表面５４に形成された中間層５２と、中間層５２の表面に形成されたダイヤモンド薄膜層５３とを備える。 - 特許庁

A metal laminate film is wound around the outer periphery of a tubular resin inner layer 1 to form an intermediate barrier layer 2 and a resin outer layer 3 is formed to the outer periphery of the intermediate barrier layer 2 to obtain a low permeable hose.例文帳に追加

管状の樹脂製内層１の外周に、金属ラミネートフィルムを巻き付けてなる中間バリア層２が形成され、さらにこの中間バリア層２の外周に樹脂製外層３が形成されてなる低透過ホースであって、上記中間バリア層２が下記の（Ａ）を用いて形成されている。 - 特許庁

A carbon layer 3 of low refractive index showing a refractive index of 1.35-1.70 is used as an intermediate layer of a transparent metal oxide layer 4 and further on top of it a transparent metal oxide layer of very thin thickness is formed, thereby the transparent conductive film for solving a problem of "conductivity" and "transparency" is manufactured.例文帳に追加

屈折率が１．３５〜１．７０を示す、低屈折率のカーボン層３を透明金属酸化物層４の中間層に使用し、さらにその上に極薄膜厚の透明金属酸化物層を形成することで、「導電性」「透明性」という課題を解決することが可能な透明導電膜を作製することができる。 - 特許庁

In a dry film-forming method, a manufacturing method of the conductive member has a process of forming an intermediate layer on the metal base material and a process of forming the conductive carbon layer on the intermediate layer, and changes a negative bias voltage at forming the intermediate layer at least from a low value to a high value.例文帳に追加

本発明の導電部材の製造方法は、乾式成膜法において、金属基材上に中間層を形成する工程と、中間層上に導電性炭素層を形成する工程とを有し、中間層形成時における負のバイアス電圧を少なくとも低い値から高い値へ変化させることを有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a means of maintaining contact resistance low while securing its superior conductivity sufficiently in a conductive member having a metal base materia layer, an intermediate layer and a conductive carbon layer.例文帳に追加

金属基材層と中間層と導電性炭素層とを有する導電部材において、その優れた導電性を十分に確保しつつ、接触抵抗を低く維持しうる手段を提供する。 - 特許庁

Here, the intermediate layer 13 has an amorphous layer 14, i.e., a low grain boundary density layer in which a density of a crystal grain boundary is formed lower than a crystalline metal layer 15, i.e., the other part at a part.例文帳に追加

ここで、中間層１３は、他の部分である結晶質金属層１５よりも結晶粒界の密度が低く形成された低粒界密度層であるアモルファス層１４を一部に有する。 - 特許庁

In order to alleviate the stress to be applied to the post, a stress buffer material 10 such as a metal layer having a low Young's modulus such as, for example, gold (Au), palladium (Pd) or the like is inserted to an intermediate of the post 4.例文帳に追加

ポスト４に加わる応力を緩和させるために、ポスト４の中間に例えば、金（Ａｕ）、パラジウム（Ｐｄ）等の低ヤング率の金属層などの応力緩衝材１０を挿入した。 - 特許庁