low precipitationとは 意味・読み方・使い方

To prevent the generation of precipitation even at a low temperature although an effective component is contained in a high concentration.例文帳に追加

高い濃度で有効成分を含有しながら温度が低くなっても沈澱が発生しないようにする。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for drawing sludge from a precipitation tank which can prevent drawing of a slurry of a low sludge concentration and thereby reduce the load of dehydration treatment and a precipitation tank equipped with the apparatus.例文帳に追加

スラッジ濃度の低いスラリーの引抜を防止し、脱水処理の負荷を軽減することのできる沈殿槽のスラッジ引抜方法および装置、該装置を備えた沈殿槽を得る。 - 特許庁

To obtain a cosmetic having low irritation, slight stickiness after use, a proper viscosity, not causing precipitation, cloudiness, etc. even at a low temperature and an excellent low-temperature stability.例文帳に追加

低刺激で、使用後のべたつき感が少なく、適度な粘度を有し、かつ、低温においても、析出や白濁等の起こらない、低温安定性に優れた化粧料を得る。 - 特許庁

To enhance low-temperature flowability of a biodiesel fuel containing a fatty acid methyl ester, and to suppress precipitation separated out during storage at a low temperature.例文帳に追加

脂肪酸メチルエステルを含有するバイオディーゼル燃料の低温流動性の向上及び低温保管した時の沈殿の析出を抑制する。 - 特許庁

light wispy precipitation that evaporates before it reaches the ground (especially when the lower air is low in humidity)発音を聞く 例文帳に追加

それが地上に達する前に蒸発するごくわずかな降水（特に低いところの空気の湿度が低い時に） - 日本語WordNet

To provide a processing method of wafer for making a silicon wafer having a precipitation of oxygen density optimal for a device by controlling increase/decrease in precipitation of oxygen density even in a low temperature process.例文帳に追加

低温プロセスにおいても酸素析出物密度の増大／減少を制御し、デバイスにとって最適の酸素析出密度を持つシリコンウェーハを作成するウェーハ処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a biofuel by which the biofuel hardly causing precipitation even at a low temperature can be produced simply at a low cost, and to provide the biofuel.例文帳に追加

簡単かつ低コストで製造することができ、更に、低温でも沈殿物が析出し難いバイオ燃料の製造方法およびバイオ燃料を提供する。 - 特許庁

The low-oxygen silicon wafer is low-temperature heat-treated at 550-800°C and high-temperature heat-treated at 1,000-1,200°C after a oxygen- precipitation core is produced in the wafer.例文帳に追加

低酸素シリコンウェーハを５５０〜８００℃で低温熱処理し、ウェーハ中に酸素析出核を生成後１０００〜１２００℃で高温熱処理する。 - 特許庁