lower alkyl groupとは 意味・読み方・使い方

In the formula, R^1 is a lower alkyl group, R^2 is a substituted or unsubstituted lower alkyl group, X is a nitroso group at 2-, 3- or 4-position, and Y is an atomic symbol N or NH.例文帳に追加

一般式（Ｉ）：（式中、Ｒ^１は低級アルキル基、Ｒ^２は、置換若しくは非置換低級アルキル基、Ｘは２−、３−または４−位におけるニトロソ基、Ｙは原子記号Ｎ若しくはＮＨである。） - 特許庁

This hydronaphthylalkylamine is compound of a hydronaphthalene ring having two methyl groups at its 4 position, a lower alkyl group, a hydroxy group which may have a substituent or a protective group or a methylene group at its 8 position and a lower alkyl group having an amino group at its 9 position.例文帳に追加

ヒドロナフタレン環の４位に二つのメチル基、８位に低級アルキル基と置換基または保護基を有していてもよい水酸基またはメチレン基、９位にアミノ基を持つ低級アルキル基を有しているヒドロナフチルアルキルアミンとする。 - 特許庁

A compound indicated by general formula(In this formula, R1 means a methylthio or methylsulfinyl group, whereas R２ means a lower alkyl group).発音を聞く 例文帳に追加

式中、R1はメチルチオ又はメチルスルフィニル基を表し、R2は低級アルキル基を表すの化合物。 - 特許庁

NEW 1,2-DIHYDROXYQUINOLINE DERIVATIVE HAVING SUBSTITUTED PHENYLAMINO LOWER ALKYL GROUP AND ESTER STRUCTURE-INTRODUCED PHENYL GROUP AS SUBSTITUENT例文帳に追加

置換フェニルアミノ低級アルキル基とエステル構造を導入したフェニル基を置換基として有する新規１，２−ジヒドロキノリン誘導体 - 特許庁

NEW 1,2-DIHYDROXYQUINOLINE DERIVATIVE HAVING SUBSTITUTED PHENYLCHALCOGENO LOWER ALKYL GROUP AND ESTER STRUCTURE-INTRODUCED PHENYL GROUP AS SUBSTITUENT例文帳に追加

置換フェニルカルコゲノ低級アルキル基とエステル構造を導入したフェニル基を置換基として有する新規１，２−ジヒドロキノリン誘導体 - 特許庁

In the formula, R^1 is a lower alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or selected from the group consisting of -OH, -COOH, -SO_3H, and a halogen atom.例文帳に追加

式中のＲ^1は、炭素数１〜６の低級アルキル基、または−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＳＯ_3Ｈおよびハロゲン原子からなる群から選択される。 - 特許庁

To provide a method for producing a naphthyridine derivative expressed by formula (3) (wherein R^1 represents a lower alkyl group; R^2 and R^3 represent each a lower alkyl group or a phenyl group which may be substituted) without deprotecting an O-acyl protecting group.例文帳に追加

Ｏ−アシル保護基の脱保護を起こさずに、一般式（３） （式中、Ｒ^1は低級アルキル基を表わし、Ｒ^2およびＲ^3は、低級アルキル基または置換されていてもよいフェニル基を表わす。）で示されるナフチリジン誘導体を製造する方法を提供すること。 - 特許庁

In the formula, R1 is hydrogen, lower alkyl or the like; R2 is hydrogen, lower alkyl, cycloalkyl, benzcycloalkyl, heterocyclyl or aryl group which may be substituted by one or more same or different groups as needed, or the like; R4 is hydrogen, lower alkyl or halogen.例文帳に追加

（式中、Ｒ１は水素、低級アルキル等；Ｒ２は水素、所望により１個以上の同一または異なる基で置換されている、低級アルキル、シクロアルキル、ベンズシクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール基等；Ｒ４は水素、低級アルキルまたはハロゲンを意味する） - 特許庁