metal organic chemical vapor deposition methodとは 意味・読み方・使い方

The depositing method can be CVD (chemical vapor deposition), MOCVD (organic metal chemical vapor deposition), ALD (atomic layer deposition), or those similar to this.例文帳に追加

蒸着は化学気相蒸着法ＣＶＤ、有機金属化学気相蒸着法ＭＯＣＶＤ、原子層蒸着法ＡＬＤ、またはこれと類似の蒸着法であり得る。 - 特許庁

The ferroelectric film 12 is formed on both side surfaces of the electrode SD by an MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor Deposition) method and the electrode TD is formed on a side surface of the ferroelectric film 12 by a CVD (Chemical Vapor Deposition) method.例文帳に追加

強誘電体膜１２はＭＯＣＶＤ法により電極ＳＤの両側面に形成され、電極ＴＤはＣＶＤ法により強誘電体膜１２の側面に形成される。 - 特許庁

The protective film 12 can be deposited by ion-plating, expansive thermal plasma, the plasma-excited chemical vapor deposition method, the organic metal vapor deposition method, the organic metal vapor deposition epitaxy, sputtering, electronic beams, plasma spray or the like.例文帳に追加

保護膜１２は、イオンプレーティング、膨張性熱プラズマ、プラズマ励起化学気相成長法、有機金属化学気相成長法、有機金属気相エピタキシー、スパッタリング、電子ビーム、プラズマスプレーなどにより成膜することができる。 - 特許庁

SOLUTION MATERIAL FOR ORGANIC METAL CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD AND FORMING METHOD OF COMPOSITE OXIDE SERIES DIELECTRIC THIN FILM USING THE MATERIAL例文帳に追加

有機金属化学蒸着法用溶液原料及び該原料を用いた複合酸化物系誘電体薄膜の製造方法 - 特許庁

METHOD OF FORMING PrxCa1-xMnO3 THIN FILM HAVING PrMnO3/CaMnO3 SUPERLATTICE STRUCTURE BY METAL-ORGANIC CHEMICAL VAPOR DEPOSITION例文帳に追加

有機金属化学気相成長法によるＰｒＭｎＯ３／ＣａＭｎＯ３超格子構造を有するＰｒｘＣａ１−ｘＭｎＯ３薄膜の形成方法 - 特許庁

TANTALUM COMPLEX AND SOLUTION RAW MATERIAL CONTAINING THE COMPLEX AND USED FOR ORGANIC METAL CHEMICAL VAPOR DEPOSITION METHOD AND TANTALUM-CONTAINING THIN FILM FORMED FROM THE SAME例文帳に追加

タンタル錯体及び該錯体を含む有機金属化学蒸着法用溶液原料並びにこれを用いて作製されたタンタル含有薄膜 - 特許庁

The film is formed of a metal nitride by a metallo-organic chemical vapor deposition method, and partially subjected to plasma treatment.例文帳に追加

この膜は、金属有機化学気相蒸着法による金属窒化物で形成され、部分的にプラズマ処理される。 - 特許庁

A copper thin film is produced from the copper complex or the mixture by an organic metal chemical vapor deposition method.例文帳に追加

本発明の銅薄膜は、上記銅錯体又は上記混合物を用いて有機金属化学蒸着法により作製された薄膜である。 - 特許庁