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native oxide~の英語
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「native oxide~」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 31件
NATIVE OXIDE FILM REMOVING METHOD IN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING PROCESS例文帳に追加
半導体製造工程における自然酸化膜除去方法 - 特許庁
The oxide film is thicker than a native oxide but not thicker than 80 nm.例文帳に追加
この酸化膜の厚みは、自然酸化膜よりは大きく80nm以下の範囲である。 - 特許庁
Since the native oxide layer hardly exist under the silicon oxide film 3a, film quality of the silicon oxide film 3a is enhanced.例文帳に追加
このようにすると、シリコン酸化膜3aの下には自然酸化膜がほとんど存在しない為、シリコン酸化膜3aの膜質が向上する。 - 特許庁
To provide a method and a device for removing a native oxide from a substrate surface.例文帳に追加
基板表面から未変性酸化物を除去するための方法及び装置を提供する。 - 特許庁
The processing unit is a wet etching unit 14 using a chemical liquid capable of dissolving the native oxide of the metal or a dry etching unit 206 using a gas capable of reducing or etching the native oxide of the metal.例文帳に追加
処理ユニットは、金属の自然酸化膜を溶解可能な薬液を用いたウェットエッチングユニット14、あるいは、金属の自然酸化膜を還元可能またはエッチング可能なガスを用いたドライエッチングユニット206とする。 - 特許庁
The step for forming a silicon oxide film 3a and the step for removing a native oxide layer 10 are preferably carried out in the same equipment.例文帳に追加
この場合、シリコン酸化膜3aを形成する工程は、自然酸化膜10を除去する工程と同一の装置内で行われるのが好ましい。 - 特許庁
Consequently, impurities adhering to the amorphous silicon layer is reduced as compared with a process where a native oxide film is formed.例文帳に追加
その結果、自然酸化膜を形成する工程に比べ、非晶質シリコン層に付着する不純物が減少する。 - 特許庁
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「native oxide~」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 31件
To enhance the adhesiveness of a film deposited on a substrate through a next film deposition by reliably removing deposits including a native oxide film.例文帳に追加
自然酸化膜を含む付着物を確実に除去し,次の成膜処理によって被処理基板に形成される膜の密着性をより向上させる。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing an image sensor in which a native oxide film is prevented from being formed on an undercut to improve reliability of an element.例文帳に追加
アンダーカットに自然酸化膜が形成されるのを防止し、素子の信頼性を向上できるイメージセンサの製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a processing method, a processing device, and a program of a workpiece which can remove a native oxide film formed in the workpiece.例文帳に追加
被処理体に形成された自然酸化膜を除去することができる被処理体の処理方法、処理装置及びプログラムを提供する。 - 特許庁
Impurities, such as a native oxide layer and the like, in a surface of the substrate 2 to be treated are removed mainly by the activated hydrogen.例文帳に追加
被処理基板2表面の自然酸化膜などの不純物は主に活性化された水素によって除去される。 - 特許庁
To remove the native oxide without reducing the thickness of a gate sidewall insulating film, by setting the etching rate of the gate sidewall insulating film formed of a silicon nitride film which is formed by LP-CVD method by using HCD as a material gas sufficiently lower than that of the native oxide.例文帳に追加
原料ガスとしてHCDを用いたLP−CVD法により形成した、シリコン窒化膜からなるゲート側壁絶縁膜のエッチングレートを、自然酸化膜のエッチングレートよりも十分に遅くし、ゲート側壁絶縁膜の薄膜化を招くことなく、自然酸化膜を除去すること。 - 特許庁
The etching liquid for removing an insulation film including a silicon oxide film or a silicon native oxide includes aqueous solution containing a hydrofluoric acid salt of hydrofluoric acid and an aliphatic or an alicylic tertiary amine.例文帳に追加
フッ化水素酸と脂肪族又は脂環式第三級アミンのフッ化水素酸塩を含む水溶液を包含する、シリコン酸化膜を含む絶縁膜のエッチング用またはシリコン自然酸化膜のエッチング除去用のエッチング液。 - 特許庁
Contamination of a semiconductor film is suppressed by performing oxidation having an effect of removing organic matters following to removal of a native oxide formed on the surface of the semiconductor film, thereby forming a clean oxide film and then performing laser annealing.例文帳に追加
半導体膜表面に形成された自然酸化膜を除去した後、有機物除去効果のある酸化処理を施して清浄な酸化膜を形成してからレーザーアニールを行うことで半導体膜への汚染を低減させる。 - 特許庁
A process for forming a clean oxide film after forming an amorphous silicon film without forming a native oxide on the surface thereof and completing crystallization of silicon is employed.例文帳に追加
非晶質シリコン成膜後にその表面に自然酸化膜を形成させず、クリーンな酸化膜を形成し、シリコンの結晶化を完了するプロセスを採用する。 - 特許庁
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