no exposureとは意味・読み方・使い方

To provide an electron beam exposure device with no restriction for patterns.例文帳に追加

パターンの制限がない電子ビーム露光装置を提供する。 - 特許庁

To suppress deterioration of NO_x selective reduction activity in the case of exposure to high temperature environments containing steam.例文帳に追加

水蒸気を含む高温雰囲気に曝された場合におけるNO_x 選択還元活性の低下を抑制する。 - 特許庁

To provide an exposure mask requiring no complementary division of an opening-like exposure pattern, an exposure method using that exposure mask, and a process for fabricating a semiconductor device.例文帳に追加

開口状の露光パターンを相補分割する必要のない露光マスク、この露光マスクを用いた露光方法、および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The exposure and the sweeping-out of the electric charge are repeated until the image blurring during one exposure becomes within an allowable range (no in S9).例文帳に追加

一回の露光中の像振れが許容範囲内に収まるようになるまで（Ｓ９のＮＯ）、露光と電荷掃き捨てを繰り返す。 - 特許庁

To provide a scanning exposure apparatus causing no variations in exposure even when the scanning speed of a substrate stage changes.例文帳に追加

本発明は、基板ステージの走査速度が変動した場合にも露光むらが生じることがない走査型露光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

Even by using no expensive electron beam exposure unit, an X-ray exposure unit or the like, an ultrafine structure of a nanometer level can be simply formed.例文帳に追加

高価な電子ビーム露光装置やＸ線露光装置等を用いなくても、ナノメータレベルの微細構造を簡単に形成することが可能である。 - 特許庁

In the method of exposure when there is no large area pattern around a subfield SF on the substrate to be transferred, the exposure is performed with uniform illumination intensity (Fig.(B)).例文帳に追加

被転写基板上でサブフィールドＳＦの周囲に大面積パターンがない場合には一様の照明強度で露光を行う（図１（Ｂ））。 - 特許庁

To provide a printing plate material excelling in an exposure visible image property and allowing no change of a visible image in handling after exposure.例文帳に追加

本発明の目的は、露光可視画性に優れ、かつ、露光後の取り扱いで可視画像が変化しない印刷版材料を提供することにある。 - 特許庁