or -taとは 意味・読み方・使い方

In a dry etching apparatus equipped with a chamber 10 that etches the processing object, shielding plates 30 consisting of Ta, Ti or an alloy containing Ta or Ti are arranged in the chamber.例文帳に追加

被処理物をエッチングするチャンバー１０を備えたドライエッチング装置において、前記チャンバー内に、Ta、あるいはTi、あるいはTaまたはTiを含む合金からなる遮蔽板３０が配置されている。 - 特許庁

In addition, as necessary, the composition of the overlaying metal 14 is made to contain one or more kinds among Cr, Ta and W at a rate of, in wt%, ≤6% Cr, ≤10% Ta, and ≤5% W.例文帳に追加

また必要に応じて肉盛金属１４の組成を、Cr，Ta，Wの１種若しくは２種以上を重量％でCr：≦6％，Ta：≦10％，W：≦5％で含有する組成となす。 - 特許庁

An error detection and correction circuit detects whether a bit D0(ta) or a bit D1(ta) includes an error by comparing bits D0(ta), D0(tb) and D1(ta), and D1(tb), and corrects a detected error.例文帳に追加

誤り検出訂正回路が、ビットＤ０（ｔａ）、Ｄ０（ｔｂ）及びＤ１（ｔａ）、Ｄ１（ｔｂ）の比較により、ビットＤ０（ｔａ）又はビットＤ１（ｔａ）が誤りを含むか否かを検出し、かつ、検出された誤りを訂正する。 - 特許庁

A process selecting the pump to be operated at next time to make accumulated operation time in the predetermined staircase shape is performed a period Tb which is equal to or shorter than a period Ta in the fixed period Ta.例文帳に追加

積算運転時間が予め設定された分布となるように次回運転するポンプを選択する処理は、一定期間Ta内においてTa以下の期間であるTbのみ行う。 - 特許庁

The lower layer 31 is formed by any of Ta-Si-O, Ta-Si-O-N, Ta-Si-Al-O, or Ta-Si-Al-O-N, and the heat generating resistor layer 33 is also formed by the same composition.例文帳に追加

下部層３１はＴａ−Ｓｉ−Ｏ、Ｔａ−Ｓｉ−Ｏ−Ｎ、Ｔａ−Ｓｉ−Ａｌ−Ｏ又はＴａ−Ｓｉ−Ａｌ−Ｏ−Ｎのいずれかで形成され、発熱抵抗層３３も同様の組成で形成される。 - 特許庁

A catalyst is constituted of two or more metals and/or metal compounds selected from Ru, Ti, Mo, W, V, Ir, Nb, W, Cu, Ni, La, Ca, Cu, Zr, and Ta.例文帳に追加

触媒を、Ru、Ti、Mo、W、V、Ir、Nb、W、Cu、Ni 、La、Ca、Cu、 Zr及びTaから選ばれる２種以上の金属及び／又は金属化合物から構成する。 - 特許庁

Both temperatures Tw, Ta are set up to be the same by monitoring the temperature Tw, Ta and by changing increase or decrease of Vw or Va (S3-S8).例文帳に追加

温度Ｔｗ，Ｔａを監視し、Ｖｗ又はＶａを増減変更して両温度Ｔｗ，Ｔａが等しくなるようにする(Ｓ３−Ｓ８)。 - 特許庁

The second barrier (126) is a barrier of low conductivity such as Ta, Ti, Mo, W, TaN, WN, MoN or TiN so that the second barrier remains in the bottom of the via or contact.例文帳に追加

第２のバリア（126）はビアまたはコンタクトの底に残っているので、第２のバリア（126）は、Ta, Ti, Mo, W, TaN, WN, MoNまたはTiNのような低い抵抗率のバリアを有する。 - 特許庁