oxygen stationとは 意味・読み方・使い方

To efficiently suppress the generation of odor without supplying excessive oxygen to sewage in a manhole type pump station.例文帳に追加

マンホールポンプ場において、汚水に過剰な酸素供給を行うことなく、臭気の発生を効率的に抑制する。 - 特許庁

Furthermore, the portable oxygen concentrator is inoperable for delivering the first direct fluid supply via the portable oxygen outlet during delivery of the second direct fluid supply via the stationary oxygen outlet when the station and the portable system are engaged.例文帳に追加

さらに、携帯式酸素濃縮装置では、載置台と携帯式システムが係合されているとき、定置式酸素送出口を介した第２の直接的流体供給の間は、携帯式酸素送出口を介する第１の直接的流体供給の送出が作動不能となる。 - 特許庁

The station has a stationary oxygen concentrator that is inoperable for delivering a second direct fluid supply via a stationary oxygen outlet during delivery of the first direct fluid supply via the portable oxygen outlet when the station and the portable system are engaged.例文帳に追加

載置台は、携帯式システムと係合されたとき制御システムにより選択的に制御され、携帯式システムが係合されているとき、携帯式酸素送出口を介した第１の直接的流体供給の間は、定置式酸素送出口を介する第２の直接的流体供給の送出が作動不能となる定置式酸素濃縮装置を有する。 - 特許庁

The universal/upgrading pulse oximeter (UPO) includes a portable unit (610) providing three-instruments-in-one functionality for measuring oxygen saturation and related physiological parameters, and a docking station (660).例文帳に追加

汎用/アップグレード用パルス酸素濃度計（ＵＰＯ）は、酸素飽和度及び関連する生理学パラメータの測定に供される３つの機器が一体となった機能をもつ可搬型ユニット（６１０）とドッキング・ステーション（６６０）を備える。 - 特許庁

The portable system is equipped with a power supply, a controlling system, and a portable oxygen outlet configured to selectively provide a first direct fluid supply, A station is configured to engage the portable system.例文帳に追加

携帯式システムは、電源、制御システム及び第１の直接的流体供給を選択的に行う携帯式酸素送出口を備える。 - 特許庁

The universal/upgrading pulse oximeter (UPO) (210) comprises a portable unit (610) and a docking station (660, 910) together providing three-instruments-in-one functionality for measuring oxygen saturation and related physiological parameters.例文帳に追加

汎用/アップグレード用パルス酸素濃度計（ＵＰＯ）２１０は、酸素飽和度及び関連する生理学パラメータの測定に供される３つの機器が一体となった機能をもつ可搬型ユニット（６１０）とドッキング・ステーション（６６０、９１０）を備える。 - 特許庁

In a heating processing apparatus 341 of a low-oxygen cure cooling processing station, vent holes 346a are provided to a ring shutter 346 in the thickness direction of a wafer W, heated inert gas is fed into the heating processing chamber 341 via the vent holes 346a, so that both the surfaces of the wafer W can be heated while substituting an atmosphere inside the heating processing chamber 341 with inert gas.例文帳に追加

低酸素キュア・冷却処理ステーション（ＤＣＣ）の加熱処理装置３４１において、リングシャッター３４６にウエハＷの厚さ方向に沿って複数の通気口３４６ａが設けられ、これら通気口３４６ａを介して加熱された不活性ガスが加熱処理室３４１の中へ供給されるので、加熱処理室３４１内を不活性ガスに置換しつつウエハＷの両面を加熱することができる。 - 特許庁