photo aboveとは 意味・読み方・使い方

The concentration of H_2O_2 in a SPM solution other than the time of cleaning a substrate 1 (removing the photo resist film) is controlled at a first concentration or above which is the minimum capable of removing at least a part of the photo resist film.例文帳に追加

基板１の洗浄（フォトレジスト膜の除去）時以外のＳＰＭ液中のＨ_２Ｏ_２の濃度は、フォトレジスト膜の少なくとも一部を除去できる最低限の第１濃度以上で制御する。 - 特許庁

In the case that the information above is attached to the photo print to be generated, the information to be attached is recorded at the recording position designated on the photo print in the designated recording format.例文帳に追加

写真プリントの作成にあたって上記の情報が付加されていた場合には、前記付加すべき情報が、写真プリント上の指定された記録位置に指定された記録フォーマットで記録される。 - 特許庁

A transfer gate 105 in each imaging pixel is so formed that a part thereof traverses above a photo diode 101.例文帳に追加

各撮像画素における転送ゲート１０５は、その一部がフォトダイオード１０１の上方を横切るように形成されている。 - 特許庁

A patterned photo-resist layer is formed by using the first mask again such that the semiconductor material layer is protected above the gate.例文帳に追加

第１のマスクを再度用いてパターニングされたフォトレジスト層を形成することにより、ゲートの上側の半導体材料層を保護する。 - 特許庁

A buffer layer 2 or a crystal layer above it is set as a photosensitive layer which receives a light L1 and emitting photo luminescence L2.例文帳に追加

バッファ層２またはその上方の結晶層を、光Ｌ１を受けてフォトルミネセンス光Ｌ２を発する光感応層とする。 - 特許庁

Preferably, (C) a photo-polymerizable compound is blended to the above.例文帳に追加

好ましくはさらに光重合性化合物（Ｃ）を配合してなるプラスチック基材用活性光線硬化型レジストインキに関する。 - 特許庁

When an interface 4 rises above an interface detection position (measurement light irradiation position), only the measurement light is absorbed in the water 3 to reduce a photo-detection intensity.例文帳に追加

界面４が界面検知位置（測定光照射位置）より上昇すると、測定光のみが水３で吸収を受け、受光強度が減少する。 - 特許庁

Thus, a region of a raw material surface 1a, located above the liquid surface 2a, is covered with the liquid photo-setting resin 2.例文帳に追加

これにより、素材表面１ａの、液面２ａより上に位置する領域を、液状の光硬化性樹脂２で被覆する。 - 特許庁