photo resistとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 光レジスト
「photo resist」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 430件
PHOTO-RESIST PEELING COMPOSITION, PHOTO-RESIST PEELING METHOD AND MANUFACTURING METHOD FOR DISPLAY UNIT USING THE SAME例文帳に追加
フォトレジスト剥離組成物、これを用いたフォトレジスト剥離方法及び表示装置の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR APPLYING PHOTO-RESIST SOLUTION, METHOD FOR FORMING PHOTO-RESIST PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
フォトレジスト液の塗布方法、フォトレジストパターンの形成方法、半導体装置の製造方法 - 特許庁
A photo resist pattern formation process of forming the photo resist pattern by exposing the photo resist film 18 in a pattern form and further developing the photo resist film 18 is performed separately two or more times.例文帳に追加
そして、フォトレジスト膜１８をパターン形状に露光し、更に、フォトレジスト膜１８を現像することによりフォトレジストパターンを形成するフォトレジストパターン形成工程を、２回以上に分けて行う。 - 特許庁
PHOTO-SOLDERING RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR CURING THE SAME例文帳に追加
フォトソルダーレジスト組成物およびその硬化方法 - 特許庁
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ウィキペディア英語版での「photo resist」の意味 |
Photoresist
出典:『Wikipedia』 (2011/05/20 19:55 UTC 版)
Weblio例文辞書での「photo resist」に類似した例文 |
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photoresist
a luminary
a substance that emits phosphorescence
light-avoiding
of a photograph, the intensity of contrast
アポクロマートレンズ
「photo resist」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 430件
To provide a photo-resist application technique that can obtain highly accurate within-wafer film thickness precision in filming a substrate (wafer) with photo-resist as well as reducing a used amount of photo-resist by dropping the photo-resist during high-speed rotation.例文帳に追加
高回転でフォトレジストを滴下してフォトレジストの使用量を低減するとともに、基板（ウェハ）上へのフォトレジストの成膜において高精度の面内膜厚精度を得ることができるフォトレジスト塗布技術を提供する。 - 特許庁
METHOD FOR REMOVING RESIDUAL SUBSTANCE AFTER PHOTO RESIST PEELING例文帳に追加
フォトレジスト剥離後の残留物質を除去する方法 - 特許庁
PHOTO-SOLDERING RESIST RESIN COMPOSITION FOR ELECTROLESS GOLD PLATING AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
無電解金メッキ用フォトソルダーレジスト樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁
Then, the exposure and development of the photo-resist is carried out so that a resist pattern can be formed.例文帳に追加
その後、フォトレジストの露光、現像を行い、レジストパターンを形成する。 - 特許庁
Successively, a pattern is baked on the resist 2 in a photo-lithographic process and the resist 2 is developed (c).例文帳に追加
次にフォトリソグラフィ工程によりレジスト２にパターンを焼き付け、レジスト２を現像する（ｃ）。 - 特許庁
To provide an apparatus and method of removing a photo resist film which can rapidly and surely peel off the photo resist film using ozone water.例文帳に追加
オゾン水を用いたフォトレジスト膜の剥離を迅速かつ確実に行うことができるフォトレジスト膜除去装置および方法を提供する。 - 特許庁
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