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photobaseとは 意味・読み方・使い方

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意味・対訳 光塩基


JST科学技術用語日英対訳辞書での「photobase」の意味

photobase


「photobase」を含む例文一覧

該当件数 : 57



例文

PHOTOBASE GENERATING AGENT例文帳に追加

光塩基発生剤 - 特許庁

PHOTOBASE GENERATOR AND PHOTO-CURING TYPE RESIN COMPOSITION例文帳に追加

光塩基発生剤及び光硬化型樹脂組成物 - 特許庁

PHOTOBASE GENERATOR AND NEGATIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION例文帳に追加

光塩基発生剤およびネガ型感光性樹脂組成物 - 特許庁

PHOTOBASE GENERATING AGENT AND PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION例文帳に追加

光塩基発生剤及び光硬化性樹脂組成物 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE COMPOSITION CONTAINING PHOTOBASE GENERATOR例文帳に追加

光塩基発生剤を含有する感光性組成物 - 特許庁

PHOTOBASE GENERATOR, CURABLE COMPOSITION AND METHOD FOR CURING例文帳に追加

光塩基発生剤、硬化性組成物及び硬化方法 - 特許庁

例文

PHOTOBASE-GENERATING AGENT, LIGHT-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND CIRCUIT BOARD USING THE SAME例文帳に追加

光塩基発生剤、感光性樹脂組成物及びそれを用いた回路基板 - 特許庁

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「photobase」を含む例文一覧

該当件数 : 57



例文

PHOTOBASE GENERATOR, PHOTOCURABLE RESIN COMPOSITION USING THE SAME, AND CURED PRODUCT例文帳に追加

光塩基発生剤、それを用いた光硬化性樹脂組成物及び硬化物 - 特許庁

PHOTOBASE GENERATOR, PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING RELIEF PATTERN AND ARTICLE例文帳に追加

光塩基発生剤、感光性ポリイミド樹脂組成物、レリーフパターンの製造方法並びに物品 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, NEW COMPOUND, AND PHOTOBASE GENERATOR例文帳に追加

レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および光塩基発生剤 - 特許庁

PHOTOBASE GENERATOR, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION USING THE SAME, AND CIRCUIT BOARD USING THE COMPOSITION例文帳に追加

光塩基発生剤およびそれを用いた感光性樹脂組成物およびそれを用いた回路基板 - 特許庁

To provide a photobase generator and a negative photosensitive composition exposable with a broad band light by using the photobase generator and giving a polyimide by curing at a temperature as low as 200°C.例文帳に追加

光塩基発生剤および、該光塩基発生剤を用いたブロードバンド光により露光可能であり、200℃という低温での硬化でポリイミドを得ることのできるネガ型感光性組成物の提供。 - 特許庁

To provide a novel compound to generate a base having a higher catalytic activity than conventional photobase generators, a photobase generator containing the same, and a method for generating a base.例文帳に追加

従来の光塩基発生剤よりも、より触媒活性の高い塩基を発生する新規な化合物、これらの化合物を含んでなる光塩基発生剤及び塩基発生方法を提供する。 - 特許庁

An adhesive material for a dental composite resin contains (a) an acid group-containing radically polymerizable monomer, (b) a photobase generator, and (c) a photo-radical polymerization initiator, wherein (b) the photobase generator and (c) photo-radical polymerization initiator may be contained as (b, c) a photobase generation-photo-radical polymerization initiator provided with both functions.例文帳に追加

a)酸性基含有ラジカル重合性単量体、b)光塩基発生剤、および〔上記b)光塩基発生剤およびc)光ラジカル重合開始剤は、両機能を兼備するb,c)光塩基発生・光ラジカル重合開始剤として含有させても良い〕c)光ラジカル重合開始剤を含有してなることを特徴とする歯科コンポジットレジン用接着材。 - 特許庁

例文

A photosensitive resin composition contains a polyimide precursor including a structure represented by the following formula (1) and a photobase generator.例文帳に追加

下記式(1)で表わされる構造を含むポリイミド前駆体と、光塩基発生剤を含有する感光性樹脂組成物。 - 特許庁

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