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potential gas supplyとは 意味・読み方・使い方

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意味・対訳 ガス供給量


JST科学技術用語日英対訳辞書での「potential gas supply」の意味

potential gas supply


「potential gas supply」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 13



例文

Next, when the anode electric potential and the other anode electric potential are determined to have a potential difference of a prescribed value or more, a supply condition of the anode gas is controlled.例文帳に追加

次いで、アノード電位と他のアノード電位とが、規定値以上の電位差を有すると判断された際、アノードガスの供給条件が制御される。 - 特許庁

A fuel cell system is equipped with a fuel cell to generate power by receiving supply of a reaction gas, and a controller to carry out high potential avoiding control of an output voltage of the fuel cell by making a high potential avoidance voltage lower than its open end voltage as the upper limit.例文帳に追加

燃料電池システムは、反応ガスの供給を受けて発電する燃料電池と、燃料電池の出力電圧をその開放端電圧よりも低い高電位回避電圧を上限として高電位回避制御するコントローラとを備える。 - 特許庁

Oxidation-reduction potential water with an ORP value lower than the set maximum allowable value R,max can be produced with the minimum amount of hydrogen gas supply without measuring an ORP value with an oxidation-reduction potentiometer Rm.例文帳に追加

また、酸化還元電位計RmによりORP値を実測しなくても、設定した許容最大値R,maxよりも小さいORP値の酸化還元電位水を最小限の水素ガス供給量で製造することができる。 - 特許庁

The ion implanting device 1 comprises: a treatment chamber 2 held at the ground potential; an ion source 4 held at high potential; a main insulator 6 having an opening 6a for connecting the ion source 4 and the treatment chamber 2 in an electrically insulated state and allowing both of them to communicate each other; and a material gas supply device 10 for supplying material gas to the ion source 4.例文帳に追加

イオン注入装置1は、接地電位に保持される処理室2と、高電位に保持されるイオン源4と、イオン源4と処理室2とを電気的に絶縁状態で連結するとともに両者を連通する開口部6aを有する主絶縁体6と、イオン源4に材料ガスを供給する材料ガス供給装置10と、を備える。 - 特許庁

To provide an electron tube capable of avoiding the adsorption of gas to the surface of an emitter by the discharge of gas produced in an electron tube manufacturing process by supplying, for heating, a current to a heater installed in the electron tube without installing a new stem pin for potential supply.例文帳に追加

電子管内に設けたヒーターに対して、新たな電位供給用のステムピンを設けることなく電流を供給して発熱させ、電子管の製造工程中に発生するガス放出によるエミッタ表面へのガス吸着を回避できる電子管を提供する。 - 特許庁

A control part 150 stops the supply of the raw material gas when the carbon nanotube 5 grows to reach the separate electrode plate 30 and the difference of potential between the first and the second electrode layers 14a, 14b measured by a potentiometer 136 becomes 0 V.例文帳に追加

制御部150は、離隔電極板30までカーボンナノチューブ5が成長し、電位差計測部136によって計測される第1と第2の電極層14a,14bの間の電位差が0Vとなったときに、原料ガスの供給を停止する。 - 特許庁

例文

A plasma generating electrode 11 is disposed at a very close distance from the anode 3 of a glass bulb 2, filled with xenon (Xe) gas 1 through a high resistance 12 and a switch SW transistor 13 so as to be able to supply a voltage equivalent to the potential of a cathode 4 that forms an opposite electrode.例文帳に追加

キセノン(Xe)ガス1が充填されるガラス管2の陽極3のごく近傍の距離に反対極である陰極4と同電位の電圧を供給可能にプラズマ発生電極11が高抵抗12とスイッチ(SW)トランジスタ13を介して配置される。 - 特許庁

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クロスランゲージ 37分野専門語辞書での「potential gas supply」の意味

potential gas supply


「potential gas supply」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 13



例文

The edge cleaning device includes a nozzle head configured so as to supply a liquid and a gas to a major surface of the wafer, and supplies the gas radially inward of the location the liquid is supplied to reduce the potential of the liquid from flowing radially inward to the metal film formed on the wafer.例文帳に追加

この縁部クリーニング装置は、ウェーハの主表面に液体と気体を供給するように構成されているノズルヘッドを含み、および、ウェーハ上に形成されている金属薄膜に対して液体が半径方向内方に流れる可能性を低減させるように、液体が供給される位置の半径方向内方に気体を供給する。 - 特許庁

In a semiconductor manufacturing device processing a substrate 3000 by impressing a gas with voltage for making the gas plasmatic, the particles positively charged in a processing chamber 2100 are trapped or induced by an electrode 15, a grid 13 and a cover 3600, etc., supplied with a negative a potential as soon as a cathode voltage supply is stopped so as to prevent the particles from arriving at the substrate 3000.例文帳に追加

ガスに電圧を印加してプラズマ化することで基板3000を加工する半導体製造装置において、カソード電圧の停止した瞬間に処理室2100内の正に帯電したパーティクルを負電位を与えた電極15、グリッド13、カバー3600等によって、トラップまたは誘導するなどして、パーティクルが基板3000上へ到達することをを防止する。 - 特許庁

A high voltage DC power supply 104 that is capable of both sourcing and sinking current at any polarity of output voltage level is coupled to at least one built-in electrode 118 of an electrostatic chuck 114 to dynamically control the chucking voltage in accordance with any parameters of optimal chucking, including a leakage current, a potential difference between the wafer and chuck, and a backside gas leakage rate.例文帳に追加

任意の極性の出力電圧レベルにおいて、電流をソーシング及びシンキング両方に実施できる高圧直流電源104を、静電チャック114の少なくとも1つの埋込み電極118に結合し、漏れ電流、チャック対ウェーハ電位、後部ガス漏れレート等を含む最適チャッキングの任意の指標に応じて、チャッキング電圧を動的に制御する。 - 特許庁

The fuel cell system is equipped with a fuel cell to receive supply of reaction gas in order to generate power, a power storage device to charge at least a portion of the power generated by the fuel cell, and a controller to control operation of the output voltage of the fuel cell with a high electric potential avoidance voltage that is lower than its open end voltage defined as the upper limit.例文帳に追加

燃料電池システムは、反応ガスの供給を受けて発電する燃料電池と、燃料電池が発電する電力の少なくとも一部を充電する蓄電装置と、燃料電池の出力電圧をその開放端電圧よりも低い高電位回避電圧を上限として、運転制御するコントローラとを備える。 - 特許庁

Sub-Saharan-rich rare earth resources such as rare metals, especially southern Africa, the most likely in potential development, leveraging Japan's strengths and technology, contributing to economic development in the region and ensuring a stable supply of resources to Japan, Oil, Natural Gas and Metals National Corporation (JOGMEC) established the Botswana Centre for Remote Sensing.例文帳に追加

レアメタル・レアアース等の資源が豊富なサブサハラ、とりわけ南部アフリカ諸国は、潜在的な開発可能性が高く、我が国が強みとする技術を活かして、我が国資源の安定供給確保と同地域の経済発展に寄与するため、独立行政法人石油天然ガス・金属鉱物資源機構(JOGMEC)が、2008 年、ボツワナにリモートセンシングセンターを設置している。 - 経済産業省

例文

This plasma treatment method comprises an arrangement process placing an electrode material layer to contact with an organic functional layer in a vacuum chamber formed between a pair of electrodes, a supply process supplying plasma process gas into the vacuum chamber, and an electric field setting process applying the main alternating voltage overlapped on the reference voltage to one of the electrodes in the vacuum chamber through a condenser and maintaining the other electrode at a reference potential.例文帳に追加

プラズマ処理方法は、1対の電極間に形成されている真空室内に有機機能層に接すべき電極材料層を置く配置工程と、該真空室内にプラズマプロセスガスを供給する供給工程と、該真空室において基準電圧に重畳された主交流電圧を該電極のうちの一方の電極にコンデンサを介して印加するとともに該電極のうち他方の電極を該基準電位に維持する電界設定工程と、を含む。 - 特許庁

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