power for plasma heatingとは 意味・読み方・使い方

To provide a plasma heating device, of which, the volume of current supplied for heating is made big, and the power supplied for heating is increased by raising the arc voltage.例文帳に追加

プラズマ加熱装置の加熱に供する電流を大容量化すると共に、アーク電圧を上昇させて加熱に供する電力を向上させる。 - 特許庁

To provide a plasma arc heating device for molten metals inside a tundish which can prevent power feeding circuits from burning out.例文帳に追加

給電回路が焼損する事態の発生を防止することができる、タンディッシュ内溶融金属のプラズマアーク加熱装置を提供。 - 特許庁

AC-RF SEPARATION FILTER OF HIGH AC AND HIGH RF POWER FOR HEATING ELECTROSTATIC CHUCK OF PLASMA REACTOR例文帳に追加

プラズマリアクタの加熱静電チャックのための高ＡＣ電流、高ＲＦ電力なＡＣ−ＲＦ分離フィルタ - 特許庁

The silicon ring is arranged on the periphery of a wafer on the side of an electrode for mounting the wafer in a plasma treating system, provided with a power supply section and has self-heating function, and the plasma treating system is provided with the silicon ring.例文帳に追加

プラズマ処理装置内のウェーハを載置する電極側で、ウエーハの周辺に配置されるシリコンリングであって、給電部が設けられ、自己発熱する機能を有するシリコンリングおよび該リングを備えたプラズマ処理装置。 - 特許庁

The plasma CVD apparatus which supplies microwave electric power into a reaction chamber 1 arranged inside the annular waveguide 5, from the annular waveguide 5, and generates plasma inside the above reaction chamber 1 for treating an article with plasma, is characterized by arranging a heating device 15 for heating the above reaction chamber 1, on a side of the above annular waveguide 5.例文帳に追加

環状の導波管５により、該環状導波管５の内側に配置された反応室１に、マイクロ波電力を供給し、前記反応室１内部にプラズマを生じせしめてプラズマ処理するプラズマＣＶＤ装置において、前記環状導波管５の側方に、前記反応室１を加熱する加熱装置１５が設けられている。 - 特許庁

To prevent dust from falling onto workpieces by cooling wind generated by fans to a heating part such as magnetrons and power supply parts in a plasma generating device used for reforming or the like of a substrate.例文帳に追加

基板の改質等に使用されるプラズマ発生装置において、マグネトロンやその電源部などの発熱部位に対するファンの冷却風によるワークへの埃の落下を防止する。 - 特許庁

In this case, the load for heating the focus ring substantially acts as the load to a high-frequency power source 28 in place of the load for plasma generation, and a matching device 32A is operated to put its load into an impedance matching in regard to the high-frequency power source 28.例文帳に追加

この場合、プラズマ生成用負荷に置き換わってフォーカスリング加熱用負荷が高周波電源２８に対して実質上の負荷となり、整合器３２Ａは高周波電源２８に対してその負荷をインピーダンス整合させるように動作する。 - 特許庁