propylene glycol monomethyl etherとは 意味・読み方・使い方

Further, it is preferable that ethanol or propylene glycol monomethyl ether is used as the above oxygen-containing organic compound.例文帳に追加

なお、上記含酸素有機化合物としては、エタノール又はプロピレングリコールモノメチルエーテルが好ましい。 - 特許庁

The hydrophilic solvent of component (B) is exemplified by propylene glycol monomethyl ether acetate or propylene glycol monoethyl ether acetate.例文帳に追加

（Ｂ）成分の親水性溶媒としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートまたはプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートが例示される。 - 特許庁

The solvent (a) is propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether propionate, tnethyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate or ethyl 3- ethoxypropionate.例文帳に追加

ただし（ａ）の溶媒は、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート，プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート，３−メトキシプロピオン酸メチル，３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、または、３−エトキシプロピオン酸エチルである。 - 特許庁

As the alcoholic solvent, an alcohol having ≥100°C boiling point, for example, normal butyl alcohol, diacetone alcohol, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monoethyl ether and propylene glycol monomethyl ether are preferably used.例文帳に追加

アルコール系溶媒としては、沸点が１００℃以上のアルコールが好ましく、例えばノルマルブチルアルコール、ダイアセトンアルコール、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等が好ましい。 - 特許庁

The photoresist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation, a resin containing repeating units corresponding to hydroxystyrene and having solubility to an alkali developing solution increased by the action of the acid and at least one solvent selected from the group comprising propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monomethyl ether propionate and at least one solvent selected from the group comprising propylene glycol monomethyl ether and ethoxyethyl propionate.例文帳に追加

活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、ヒドロキシスチレンに相当する繰り返し単位を含み、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増加する樹脂、並びにプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート及びプロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネートの群から選択される少なくとも一種の溶剤、プロピレングリコールモノメチルエーテル及びエトキシエチルプロピオネートの群から選択される少なくとも一種の溶剤を含有する遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。 - 特許庁

In the positive resist composition prepared by dissolving a base resin component (A) and an acid generator component (B) which generates an acid upon exposure in an organic solvent, the base resin component (A) is a silicone resin and the organic solvent contains propylene glycol monomethyl ether (x1) and a solvent (S2) having a higher boiling point than the propylene glycol monomethyl ether.例文帳に追加

ベース樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）とを、有機溶剤に溶解してなるポジ型レジスト組成物において、前記ベース樹脂成分（Ａ）がシリコーン樹脂であり、前記有機溶剤が、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ｘ１）と、該プロピレングリコールモノメチルエーテルよりも高沸点の溶剤（Ｓ２）とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

The resist composition for liquid immersion exposure includes (A) a resin whose solubility in an alkaline developer is increased by the action of an acid, (B) a photoacid generator, and (C) a mixed solvent containing alkylene glycol alkyl ether carboxylate and propylene glycol monomethyl ether.例文帳に追加

（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）光酸発生剤、（Ｃ）アルキレングリコールアルキルエーテルカルボキシレートとプロピレングリコールモノメチルエーテルとを含有する混合溶剤を含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。 - 特許庁

The resist composition for liquid immersion exposure comprises (A) a resin whose solubility in an alkaline developer is increased by the action of an acid, (B) an acid generator, and (C) a mixed solvent containing an alkylene glycol alkyl ether carboxylate and propylene glycol monomethyl ether.例文帳に追加

（Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂 （Ｂ）光酸発生剤 （Ｃ）アルキレングリコールアルキルエーテルカルボキシレートとプロピレングリコールモノメチルエーテルとを含有する混合溶剤を含有することを特徴とする液浸露光用レジスト組成物。 - 特許庁