radial electric fieldとは 意味・読み方・使い方

The driving electrodes 3A and 3B impress an electric field onto the piezoelectric body 2 to drive the piezoelectric body 2 in a mode where the side wall section 2A expands/contracts in the radial direction.例文帳に追加

駆動電極３Ａ，３Ｂは電界を圧電体２に印加し、側壁部２Ａが径方向に拡縮するモードで駆動される。 - 特許庁

The light from the light source unit 1 forms a rotation symmetric or radial electric field vector distribution at least at a certain part and contains a radial polarized wave group R becoming an electric field vector of the same size and distance from the center of the rotation symmetry.例文帳に追加

そして、光源ユニット１からの光は、少なくとも一部に、回転対称かつ放射状の電場ベクトル分布を構成するとともに、回転対称の中心から等距離で等しい大きさの電場ベクトルになったラジアル偏波群Ｒを含むようになっている。 - 特許庁

The magnetic field formation means restrains collision between the electric field ionization electrode 10, and secondary electrons and negative ions by forming a magnetic field having field lines extending in a direction parallel to a radial direction of the minute opening 26 on an opposite surface 31 which is the surface of the counter electrode 30 and faces the container 20.例文帳に追加

磁場形成手段は、対向電極３０の面であって容器２０に対向する対向面３１の上に、微小開口２６の径方向と平行な方向に延びる磁力線を有するような磁場を形成して、電界電離電極１０と二次電子や負イオンとの衝突を抑止する。 - 特許庁

Accordingly, electron in the plasma receives a Lorentz force by the electric field [E] as well as the magnetic field [B], and is drifted into the radial direction near the upper electrode 38 whereby plasma ion is moved into the same direction to pursue the electron.例文帳に追加

これにより、上部電極３８付近でプラズマ中の電子が電界［Ｅ］と磁場［Ｂ］とによるローレンツ力を受けて径方向にドリフトし、プラズマイオンも電子を追いかけるようにして同方向に移動する。 - 特許庁

A radial electric field is crossed to a magnetic field in the chamber defining an axis (E×B) to transport the particles (M1, M2, M3) to first, second and third areas in the respective orbital.例文帳に追加

軸線を定めているそのチャンバ内で半径方向の電界が磁界と交差されて（Ｅ×Ｂ）、粒子（Ｍ_1，Ｍ_2，Ｍ_3）をそれぞれの軌道でそれぞれ第１、第２および第３の領域へ移動させる。 - 特許庁

On the other hand, the width in the element radial direction of the plate rings 84 provided on the side of the element end of the plate rings 11 is larger than the sum of the width in the element radial direction in the guard ring layer 81 positioned right below the plate rings 84 and that in the electric field concentration region.例文帳に追加

一方、前記プレートリング１１の素子端部側に設けられるプレートリング８４における素子径方向の幅は、そのプレートリング８４の直下に位置するガードリング層８１と電界集中領域とにおける各々の素子径方向の幅の和と比較して、広いものとする。 - 特許庁

The microwave plasma processing apparatus 10 excites gas by electric field energy of microwaves emitted from a radial line slot antenna 205 in order to perform plasma treatment of a substrate G.例文帳に追加

マイクロ波プラズマ処理装置１０は、ラジアルラインスロットアンテナ２０５から放出されたマイクロ波の電界エネルギーによりガスを励起させ、基板Ｇをプラズマ処理する。 - 特許庁

The microwave plasma processing apparatus 10 performs plasma processing on a substrate W by exciting gas due to the electric field energy of the microwaves emitted from a slot plate 205b of a radial line slot antenna.例文帳に追加

マイクロ波プラズマ処理装置１０は、ラジアルラインスロットアンテナのスロット板２０５ｂから放出されたマイクロ波の電界エネルギーによりガスを励起させ、基板Ｗをプラズマ処理する。 - 特許庁