radical 34とは 意味・読み方・使い方

Radical generators 35, 36 are attached to the radical inlets 33, 34.例文帳に追加

ラジカル導入口33,34にラジカル発生器35,36を取り付ける。 - 特許庁

Etching radicals R from the radical generators 35, 36 are made to flow in from the radical inlets 33, 34 along inner end surfaces 4, 5 of the deposition chamber 2.例文帳に追加

ラジカル発生器35,36からのエッチングラジカルＲをラジカル導入口33,34から成膜チャンバ２の内端面４,５に沿って流入させる。 - 特許庁

The radical-containing mist generated in the mist generation means 53 is circulated to the dust collecting chamber 34 and is repeatedly made to act on dust or the like inside the dust collecting chamber 34, and sterilization and deodorization are effectively executed.例文帳に追加

ミスト発生手段53で発生させたラジカルを含むミストを集塵室34へと循環させて集塵室34内の塵埃などに繰り返し作用させることが可能になり、効果的に除菌および消臭できる。 - 特許庁

The two-layer silicon-based structure 34 having such a structure is etched by using the fluorine radical or other etchants.例文帳に追加

このような二層シリコン系構造３４の上層３４Ａを、フッ素ラジカル及び他のエッチャントを用いてエッチングする。 - 特許庁

The hydrogen radical 38 is injected inside the plasma atmosphere 34, and carbon nanowalls are formed on the surface of a substrate 5 arranged on the second electrode 24.例文帳に追加

その水素ラジカル３８をプラズマ雰囲気３４中に注入して、第二電極２４上に配置した基板５の表面にカーボンナノウォールを形成する。 - 特許庁

Radical inlets 33, 34 are formed at symmetric positions in the vicinity of opposing corners 8 on both side surfaces facing each other in the deposition chamber 2 of the plasma CVD device 1.例文帳に追加

プラズマＣＶＤ装置１の成膜チャンバ２の互いに対向した両側面部の相対するコーナ部８近傍の対称な位置にラジカル導入口33,34を設ける。 - 特許庁