stage of exhaustionとは 意味・読み方・使い方

When the residual gas is discharged under vacuum, the substrate stage 13 is moved into the evacuation chamber 16 and the exhaustion conductance of the reaction chamber 14 is made large.例文帳に追加

残留ガスの真空排気時には、基板ステージ１３を退避室１６内に移動させ、反応室１４の排気コンダクタンスを大きくする。 - 特許庁

Further, the capacitor element is impregnated with a monomer (S9: a monomer impregnation stage), left as it is in the whole exhaustion tank of room temperature for 30 minutes, and then heated in the whole exhaustion tank at 250°C for five minutes to chemically polymerize the monomer (S10: a chemical polymerizing stage) to form PEDOT 5.例文帳に追加

さらに、コンデンサ素子にモノマーを含浸させて（Ｓ９、モノマー含浸工程）、室温の全排気槽内に３０分間放置し、その後、全排気槽内において２５０℃で５分間加熱してモノマーを化学重合させて（Ｓ１０、化学重合工程）ＰＥＤＯＴ５を形成する。 - 特許庁

To provide a system for detecting the electric power exhaustion of a mobile body with a rechargeable power source, etc., capable of preventing inconvenience caused by detecting at an early stage that the complete exhaustion of the power source is close in the case of satisfactory feeding environment and inconvenience caused by delay in the detection in the case of dissatisfactory feeding environment.例文帳に追加

給電環境が良い場合における電源の完全消耗が近いことの早期検出による不都合や、給電環境が良くない場合における前記検出の遅れによる不都合を防止できる、充電式電源を有する移動体の電力消耗検出システム等を提供する。 - 特許庁

A receiving operation is performed without being influenced by memory exhaustion of a reassemble processing circuit 2 by arranging a selector 1 on the front stage of the reassemble processing circuit 2 of the Fragment packet and causing a Non-Fragment packet to bypass the reassemble processing circuit.例文帳に追加

Fragmentパケットのリアセンブル処理回路２の前段にセレクタ１を設け、Non-Fragmentパケットはリアセンブル処理回路をバイパスすることで、リアセンブル処理回路２のメモリ枯渇による影響を受けずに受信動作が行える。 - 特許庁

To provide a photographing device that suppresses the exhaustion of a mechanical shutter in a relatively early stage and lengthens the life of the mechanical shutter by utilizing a liquid crystal shutter positively.例文帳に追加

液晶シャッタを積極的に活用して、比較的早い時期の機械式シャッタの疲弊を抑制し機械式シャッタの長寿命化が図られた撮影装置を提供する。 - 特許庁

The reaction chamber 14 in a vacuum tank 10 is made smaller than an evacuation chamber 16 and, when a membrane is grown, a substrate stage 13 is moved toward the reaction chamber 14 and raw material gas is introduced into the reaction chamber 14 in such a state that the exhaustion conductance of the reaction chamber 14 is made small.例文帳に追加

真空槽１０内の反応室１４を退避室１６よりも小さくし、薄膜を成長させる際には、基板ステージ１３を反応室１４側に移動させ、反応室１４の排気コンダクタンスを小さくした状態で、反応室１４内に原料ガスを導入する。 - 特許庁

Exhaustion around the peripheral portion right above the object W to be treated is forcibly and uniformly performed not only by an airflow naturally generated by the high-speed rotation of a rotary stage 2 mounting the object W, but also by the corotation of rows of a plurality of wings 1a disposed on the circumference surrounding the peripheral portion of the object W.例文帳に追加

被処理物Ｗを載置した回転ステージ２が高速回転することによって生じる自然発生的な気流とは別に、被処理物Ｗの周縁を取囲むように円周上に配置した複数の翼１ａからなる翼列が、被処理物Ｗを載置してある回転ステージ２と共に回転することによって、強制的、かつ均等に被処理物直上周縁の排気を行う。 - 特許庁