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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > JST科学技術用語日英対訳辞書 > ultraviolet laser radiationの意味・解説 

ultraviolet laser radiationとは

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主な意味紫外レーザ光; 紫外レーザ照射; 紫外レーザ放射

JST科学技術用語日英対訳辞書での「ultraviolet laser radiation」の意味

ultraviolet laser radiation



「ultraviolet laser radiation」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 39



例文

LASER-PLASMA EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION SOURCE例文帳に追加

レーザープラズマ極紫外放射線源 - 特許庁

NOZZLE FOR LASER PLASMA EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION SOURCE AND METHOD OF GENERATING EXTREME ULTRAVIOLET RADIATION例文帳に追加

レーザープラズマ極紫外放射線源のためのノズル及び極紫外放射線の発生方法 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resist composition that responds not only to ultraviolet rays, such as I-line or g-line, but also to visible rays, excimer laser beam like that of KrF, electron beams, extreme-ultraviolet radiation (EUV), X-rays, and radiation, such as ion beams.例文帳に追加

i線、g線等の紫外線のみならず、可視光線、KrF等のエキシマレーザー光、電子線、極端紫外線(EUV)、X線、イオンビーム等の放射線にも感応する感放射線性レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an EUV (extreme ultraviolet) radiation source employing a laser prepulse of a low energy just before a laser main pulse of a high energy.例文帳に追加

高エネルギーのレーザメインパルスの直前に低エネルギーのレーザ先行パルスを用いるEUV放射源を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having a high resolution and a high radiation transmittance as a chemically amplified resist sensitive to an actinic radiation such as KrF excimer laser, ArF excimer laser, F_2 excimer laser or far UV typified by EUV (extreme-ultraviolet radiation).例文帳に追加

活性放射線、例えばKrFエキシマレーザー、ArFエキシマレーザー、F_2 エキシマレーザーあるいはEUVに代表される遠紫外線に感応する化学増幅型レジストとして、高解像度で、放射線透過率が高い感放射性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a synthetic silica glass optical material having high resistance to optical damages by ultraviolet radiation in an ultraviolet wavelength range, particularly in an ultraviolet wavelength region of less than about 250 nm, and particularly exhibiting a low laser-induced density change.例文帳に追加

紫外線波長範囲、特に、約250nm未満の波長領域の紫外線による光学的損傷に対する高い耐性を有し、特に、低いレーザ誘起密度変化を示す合成シリカガラス光学材料を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a radiation-sensitive composition which is excellent in resolution, environmental durability and storage stability as a chemically amplified resist sensitive to active radiation, for example, ultraviolet radiation such as g-line or i-line, far-ultraviolet radiation typified by KrF excimer laser, ArF excimer laser or F2 excimer laser, and EUV (Extreme Ultra Violet), or electron beam or the like.例文帳に追加

活性放射線、例えば、g線、i線等の紫外線、KrFエキシマレーザー、ArFエキシマレーザーもしくはF2エキシマレーザー、EUVに代表される遠紫外線、もしくは電子線などに感応する化学増幅型レジストとして、解像度、環境耐性に加え、保存安定性に優れる感放射性組成物を提供すること。 - 特許庁

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「ultraviolet laser radiation」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 39



例文

To provide a radiation-sensitive resin composition which is excellent in resolving power and LEF resistance as a chemically amplified photoresist responding to far-ultraviolet radiation represented by KrF excimer laser, ArF excimer laser and F_2 excimer laser, and a copolymer which can be used for the radiation-sensitive resin composition.例文帳に追加

KrFエキシマレーザー、ArFエキシマレーザーあるいはF_2エキシマレーザーに代表される遠紫外線に感応する化学増幅型レジストとして、解像度およびLEF耐性に優れた感放射線性樹脂組成物、およびこの感放射線性樹脂組成物に使用できる共重合体を提供する。 - 特許庁

To provide a laser plasma EUV (extreme-ultraviolet) radiation source preventing succeeding target droplets from being affected by ionizing preceeding target droplets.例文帳に追加

後続の標的小滴が先行の標的小滴のイオン化により影響を受けないようにしたレーザープラズマEUV放射線源を提供する。 - 特許庁

To provide a nozzle for a laser plasma extreme ultraviolet radiation source using a target material delivery tube.例文帳に追加

標的材料送給チューブを使用する、レーザープラズマ極紫外放射線源のためのノズルを提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum ultraviolet laser system for restraining both quantity of light to be applied to etalon and its light radiation angle.例文帳に追加

エタロンに入射させる光の量とその光の発散角とを共に抑えることができる真空紫外レーザ装置を提供する。 - 特許庁

Then, a laser beam LB in the ultraviolet range from a light radiation device 30 is irradiated on the rear surface of the object WO through a window 22b.例文帳に追加

次に、光照射装置30からの紫外域のレーザ光LBを、窓部材22bを介して処理対象WOの裏面に入射させる。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition suitable as a chemically-amplified resist useful for microfabrication utilizing various types of radiation such as deep ultraviolet rays represented by a KrF excimer laser or ArF excimer laser.例文帳に追加

KrFエキシマレーザー、ArFエキシマレーザー等の遠紫外線の如き各種の放射線を使用する微細加工に有用な化学増幅型レジストとして好適に使用することができる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To enable it to generate a ultraviolet radiation laser of a short wavelength by using a CLBO crystal as a wavelength transducer and by clarifying the service temperature of the CLBO crystal in the case of outputting the ultraviolet radiation laser with a short wavelength of 225 nm or less, without lowering the output.例文帳に追加

CLBO結晶を波長変換素子として使用し、225nm以下の波長の短い紫外光レーザを出力する際のCLBO結晶の使用温度を明らかにし、出力を低下させることなく上記短波長の紫外光レーザ発生できるようにすること。 - 特許庁

例文

To provide a positive type radiation-sensitive resin composition suitable as a chemically-amplified resist sensitive to active radiation particularly to far ultraviolet rays represented by a KrF excimer laser, an ArF excimer laser or an F_2 excimer laser, excelling particularly in a process margin for the KrF excimer laser.例文帳に追加

活性放射線、例えばKrFエキシマレーザー、ArFエキシマレーザーあるいはF_2エキシマレーザーに代表される遠紫外線に感応する化学増幅型レジストとして、特にKrFエキシマレーザーに対するプロセスマージンに優れる。 - 特許庁

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