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主な意味深紫外リソグラフィー

JST科学技術用語日英対訳辞書での「ultraviolet lithography」の意味

ultraviolet lithography



「ultraviolet lithography」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 89



例文

A deep ultraviolet ray lithography発音を聞く例文帳に追加

ディープ紫外線リソグラフィー - 特許庁

LIMIT-ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY APPARATUS例文帳に追加

極限紫外リソグラフィー装置 - 特許庁

ULTRAVIOLET POLARIZING BEAM SPLITTER FOR MICRO-LITHOGRAPHY例文帳に追加

マイクロリソグラフィ用の紫外線偏光ビームスプリッタ - 特許庁

LIGHT SOURCE DEVICE FOR EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY例文帳に追加

極端紫外リゾグラフィー用光源装置 - 特許庁

METHOD OF PRODUCING SUBSTRATE FOR EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY例文帳に追加

極紫外線リソグラフィー用基板の製造方法 - 特許庁

CLEANING METHOD OF OPTICS SYSTEM FOR EXTREME ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY例文帳に追加

極端紫外線リソグラフィー用光学系のクリーニング方法 - 特許庁

例文

The lithography apparatus includes a radiation source which generates extreme ultraviolet radiation.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、極端紫外線放射を生成する放射源を含む。 - 特許庁

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クロスランゲージ 37分野専門語辞書での「ultraviolet lithography」の意味

ultraviolet lithography

「ultraviolet lithography」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 89



例文

PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND EXTREME ULTRAVIOLET RAY LITHOGRAPHY EQUIPMENT TO WHICH IT IS APPLIED例文帳に追加

投影光学系及びこれを適用した極紫外線リソグラフィ装置 - 特許庁

EXTREME ULTRAVIOLET RAYS EXPOSURE MASK, MASK BLANK FOR EXTREME ULTRAVIOLET RAYS EXPOSURE, AND METHOD FOR MANUFACTURING EXTREME ULTRAVIOLET RAYS EXPOSURE MASK AND LITHOGRAPHY METHOD例文帳に追加

極端紫外線露光用マスク、極端紫外線露光用マスクブランク、極端紫外線露光用マスクの製造方法及びリソグラフィ方法 - 特許庁

To provide a limit-ultraviolet lithography apparatus for reducing the corrosion effect of ion sputtering.例文帳に追加

イオンスパッタリングの腐食効果を減少させる極限紫外リソグラフィー装置を提供する。 - 特許庁

ARTIFICIAL CRYSTAL FOR ULTRAVIOLET LIGHT OPTICS, AND OPTICAL SUBSTRATE USING THE SAME AND OPTICAL LITHOGRAPHY DEVICE例文帳に追加

紫外光学用人工結晶、これを用いた光学基材及び光リソグラフィー装置 - 特許庁

VACUUM ULTRAVIOLET-RAY LITHOGRAPHY DEVICE, ITS MANUFACTURE, AND METHOD FOR INSPECTING CRYSTALLINE FLUORIDE MATERIAL例文帳に追加

真空紫外光リソグラフィー装置、その製造方法、及びフッ化物結晶材料の検査方法 - 特許庁

X-RAY MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD, AND GRADATION MASK FOR ULTRAVIOLET RAY LITHOGRAPHY例文帳に追加

X線マスク及びその製造方法並びに紫外線リソグラフィー用階調マスク - 特許庁

EVAPORATIVE THERMAL MANAGEMENT OF GRAZING-INCIDENCE COLLECTOR FOR EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT LITHOGRAPHY例文帳に追加

極端紫外光リソグラフィに用いられる斜入射集光器における、気化を利用した熱管理 - 特許庁

例文

The ultraviolet light is ArF excimer laser light, and is used for an ArF lithography exposure apparatus.例文帳に追加

前記紫外光がArFエキシマレーザー光であり、ArFリソグラフィー露光装置に使用される。 - 特許庁

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