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under annealingとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 アンダーアニーリング
「under annealing」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 131件
The laser annealing is performed under the energy density of 250-5,000 ml/cm2.例文帳に追加
レーザーアニール処理は２５０〜５０００mJ/cm^2のエネルギー密度で行われる。 - 特許庁
In the annealing treatment A, a process of atomic oxygen introduction annealing treatment is first executed under predetermined conditions and then, a process of hydrogen atom introduction annealing treatment is executed under the predetermined conditions.例文帳に追加
このアニール処理Ａでは、まず原子状酸素導入アニール処理の工程を所定条件下で実行し、続いて水素原子導入アニール処理の工程を所定条件下で実行する。 - 特許庁
Annealing is carried out under the condition that an increase rate of hydrogen concentration around the interface of a semiconductor film amounts to 20% or below after annealing.例文帳に追加
アニール処理は、アニール処理後において半導体膜の界面付近の水素濃度増加率が２０％以下となるアニール条件で行う。 - 特許庁
To provide a laser annealing method that enables laser annealing of amorphous silicon always under optimum conditions.例文帳に追加
アモルファスシリコンを常に最適な条件でレーザアニールできるレーザアニール方法を提供する。 - 特許庁
There is a calculated annealing condition under which the predicted value El(%) of elongation obtained with the following equations (1) and (2) falls on a target range of the elongation required for a passed steel strip 10, and a finish annealing is performed according to the calculated annealing condition.例文帳に追加
次の（１）式及び（２）により求まる伸びの予測値Ｅl（％）が、通板させる鋼帯１０に要求される伸び目標範囲内に入る焼鈍条件を算出し、算出された焼鈍条件に従って仕上焼鈍を行う。 - 特許庁
By performing the annealing under the ammonia atmosphere, the titanium nitride film 16a is reduced in resistance.例文帳に追加
一方、アンモニア雰囲気下でのアニールを行うことにより、窒化チタン膜１６ａが低抵抗化される。 - 特許庁
Post annealing treatment may be performed under a mixing atmosphere of oxygen and nitrogen (34).例文帳に追加
酸素と窒素との混合雰囲気下においてポストアニール処理を行ってもよい（３４）。 - 特許庁
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「under annealing」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 131件
The rock crystal glass is reacted with the hydrogen by performing the annealing under the determined conditions.例文帳に追加
このようにして求めた最善の負荷条件に基づいて焼きなましをおこない、水素を負荷する。 - 特許庁
The obtained transparent polycarbonate resin molded article may be subjected to annealing under heating.例文帳に追加
得られた透明ポリカーボネート樹脂成形体を、加熱してアニール処理してもよい。 - 特許庁
When a silicification annealing is conducted under the state, the stress film 7 has a tensile stress 10a.例文帳に追加
この状態でシリサイド化アニールを行うと、ストレス膜７は引っ張り応力１０ａを有する。 - 特許庁
To provide an electromagnetic steel sheet superior in fatigue characteristics with low core loss under high frequency condition after stress relief annealing.例文帳に追加
歪取り焼鈍後の高周波鉄損が低く、疲労特性に優れた電磁鋼板を提供する。 - 特許庁
This aluminum sheet is subjected to process annealing under the temp. condition of 250 to 450°C for ≥1 min.例文帳に追加
このアルミニウム板を２５０〜４５０℃の温度条件で且つ１分以上中間焼鈍する。 - 特許庁
Subsequently, in an annealing treatment process, an annealing treatment is carried out to the silicon oxide film (241a) under the temperature condition that a treatment temperature is set at a temperature of a distortion point of the glass substrate (210) or less, and at an annealing temperature of an activation temperature of a semiconductor layer to be formed on the glass substrate (210) or higher.例文帳に追加
次に、アニール処理工程では、ガラス基板（２１０）の歪み点温度以下であり、且つ、ガラス基板（２１０）上に形成されるべき半導体層の活性化温度以上の温度であるアニール温度に処理温度が設定された温度条件下で、シリコン酸化膜（２４１ａ）にアニール処理を施す。 - 特許庁
In the annealing stage, the metal magnetic particles 10 are annealed under a vacuum or in an atmosphere of inert gas within a temperature range above phase transformation temperature of powder composition, and below temperature at which the annealing starts.例文帳に追加
焼鈍工程では、真空または不活性ガスの雰囲気下で、金属磁性粒子１０を粉末組成における変態温度以上、焼結が始まる温度未満の温度範囲で焼鈍処理を行なう。 - 特許庁
A film of an IGZO-based amorphous oxide layer is formed under a back pressure of higher than 5×10^-4 Pa in a sputtering method, and then subjected to annealing processing at an annealing temperature of 100 to 300°C.例文帳に追加
ＩＧＺＯ系アモルファス酸化物層を、スパッタ法における背圧を５×１０^−４Ｐａ超として成膜し、その後、１００℃以上、３００℃以下のアニール温度でアニール処理する。 - 特許庁
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