w-A-xとは 意味・読み方・使い方

In this X-ray foreign matter detector 1, an examined object W is irradiated with an X-ray, and the presence of a foreign matter F in the object W is detected based on a transmission amount of the X-ray transmitted through the object W in accompaniment to the X-ray irradiation.例文帳に追加

Ｘ線異物検出装置１は、被検査物ＷにＸ線を曝射し、このＸ線の曝射に伴って被検査物Ｗを透過してくるＸ線の透過量から被検査物Ｗ中の異物Ｆの有無を検出する。 - 特許庁

An arithmetic section 15 obtains a product of a code word X and a correlation matrix W.例文帳に追加

演算部１５は、符号語Ｘと相関行列Ｗの積求める。 - 特許庁

In the formula 1, 0<a<1, w+x+y+z=1, 0≤w≤1, 0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤z≤1, and A is a metallic element.例文帳に追加

前記式中、０＜ａ＜１、ｗ＋ｘ＋ｙ＋ｚ＝１、０≦ｗ≦１、０≦ｘ≦１、０≦ｙ≦１、０≦ｚ≦１、Ａは金属元素である。 - 特許庁

A measured result value A=Y×W/X is computed by the computing part 71, using the value Y and the W/X, to obtain the measured result value.例文帳に追加

該値Ｙと前記Ｗ／Ｘを用いて、測定結果の値Ａ＝ＴｘＷ／Ｘを演算部７１により演算することにより、測定結果の値を得る。 - 特許庁

The proximity scanning exposure apparatus 1 irradiates a substrate W transferred in an X direction while approaching a plurality of masks M, with exposure light EL through the plurality of masks M to impart patterns P of the plurality of masks M onto the substrate W by exposure.例文帳に追加

近接スキャン露光装置１は、複数のマスクMに近接しながらX方向に搬送される基板Wに対して複数のマスクMを介して露光用光ELを照射し、基板Wに複数のマスクMのパターンPを露光する。 - 特許庁

In this X-ray inspection system 1, an inspected object W stored with a content Wa in a storage body is exposed with an X-ray to inspect the inspected object W, based on an X-ray transmission amount accompanied to the exposure of the X-ray.例文帳に追加

Ｘ線検査装置１は、収容体に内容物Ｗａが収容された被検査物ＷにＸ線を曝射し、このＸ線の曝射に伴うＸ線透過量に基づいて被検査物Ｗの検査を行うものである。 - 特許庁

At the conveying origin D of the sheet workpiece W, even when position gaps X are generated between sheet workpieces W, the position gaps X are eliminated when they are stacked on the conveying destination A to prevent tilting of a layered product of the sheet workpieces W.例文帳に追加

枚葉ワークＷの搬送元Ｄでは、各枚葉ワークＷに位置ずれＸが生じているような場合でも、搬送先Ａへ重ねられる際には、位置ずれは解消され、枚葉ワークＷの積層体の傾斜を防ぐ。 - 特許庁

The proximity scanning exposure apparatus 1 irradiates a substrate W transferred in an X direction while approaching a plurality of masks M, with exposure light EL through the plurality of masks M to impart patterns P of the plurality of masks M onto the substrate by exposure.例文帳に追加

近接スキャン露光装置１は、複数のマスクMに近接しながらX方向に搬送される基板Wに対して複数のマスクMを介して露光用光ELを照射し、基板Wに複数のマスクMのパターンPを露光する。 - 特許庁