x=1-0の英語
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遺伝子名称シソーラスでの「x=1-0」の英訳 |
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x10
fly | 遺伝子名 | x10 |
同義語(エイリアス) | ||
SWISS-PROTのID | --- | |
EntrezGeneのID | EntrezGene:247270 | |
その他のDBのID | FlyBase:FBgn0005378 |
本文中に表示されているデータベースの説明
「x=1-0」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 327件
The thickness of an InxGa1-xN (0<x<1) well layer is 1.5-4.5 nm, and the thickness of a barrier layer is preferably 1.5-5.0 times the film thickness of the well layer.例文帳に追加
In_xGa_1-xN(0<X<1)well層の膜厚は1.5〜4.5[nm]、 barrier層の膜厚は、In_xGa_1-xN(0<X<1) well層の膜厚の1.5〜5.0倍が良い。 - 特許庁
Here, the following formulas are satisfied: 0<x<1, 0<y≤1, 0<i,j.例文帳に追加
ここで、0<x<1、0<y≦1、0<i,jである。 - 特許庁
The yellow light-emitting phosphor is represented by the following compositional formula: Ca_1-x-ySr_xAlSiN_3:Ce^3+_y (wherein, x and y satisfy each 0<x<1 and 0.001≤y≤0.1; or x and y satisfy each 0≤x<1 and 0.005≤y≤0.1).例文帳に追加
Ca_1-x-ySr_xAlSiN_3:Ce^3+_y(式中、xおよびyは0<x<1、0.001≦y≦0.1を満たす、或いは、xおよびyは0≦x<1、0.005≦y≦0.1を満たす。) - 特許庁
A nitride semiconductor shown in general formula Al_xGa_yIn_1-x-yN (where 0≤x≤1, 0≤y≤1 and 0≤1-x-y≤1) is used for the semiconductor region 12.例文帳に追加
半導体領域12には、一般式がAl_x Ga_y In_1-x-yN(但し、0≦x≦1、0≦y≦1、0≦1-x-y≦1)で表される窒化物半導体が用いられている。 - 特許庁
An AlGaN (AlxGa1-xN, 0<x<1) substrate 1 is used as a group III nitride type compound semiconductor element substrate.例文帳に追加
III族窒化物半導体素子の基板として窒化アルミニウムガリウム(Al_xGa_1-xN、0<x<1)基板1を用いる。 - 特許庁
The target material for sputtering is expressed by the composition of (Zr_x, Hf_1-x)Si_yO_2(1+y) (0≤x≤1, and 0.5≤y≤1.2).例文帳に追加
(Zr_x,Hf_1-x)Si_yO_2(1+y)(0≦x≦1、0.5≦y≦1.2)の組成で表されるスパッタリング用ターゲット。 - 特許庁
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Weblio英和対訳辞書での「x=1-0」の英訳 |
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X-10 (ミサイル)
X10 (industry standard)
X10 (programming language)
X10 (プログラミング言語)
X10 (工業規格)
「x=1-0」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 327件
In short, the light-emitting layer of the light-emitting diode is represented by a general formula InxGa1-xN1-yXy (0<x<1; X=P, As, Ab, Bi; y=0<y<0.01/0<y<0.005).例文帳に追加
すなわち、本発明に係る発光ダイオードの発光層は一般式In_xGa_1-xN_1-yX_y(0<x<1;X=P,As,Sb,Bi;y=0<y<0.01/0<y<0.005)で表される。 - 特許庁
The magnesium fluoride is preferably MgF_2-x(OH)_x (x=1-0).例文帳に追加
好ましくは、フッ素化マグネシウムがMgF_2-x(OH)_x(x=1〜0)とする。 - 特許庁
The emitter 12b includes at least one of materials selected from BaO1-X (0≤X≤1), SrO1-X (0≤X≤1), CaO1-X (0≤X≤1), and MgO1-X (0≤X≤1), and glass.例文帳に追加
エミッタ12bは、BaO_1-X(ただし、0≦X≦1)、SrO_1-X(ただし、0≦X≦1)、CaO_1-X(ただし、0≦X≦1)およびMgO_1-X(ただし、0≦X≦1)から選ばれる少なくとも一つとガラスとを含む。 - 特許庁
In the formula 1, 0<a<1, w+x+y+z=1, 0≤w≤1, 0≤x≤1, 0≤y≤1, 0≤z≤1, and A is a metallic element.例文帳に追加
前記式中、0<a<1、w+x+y+z=1、0≦w≦1、0≦x≦1、0≦y≦1、0≦z≦1、Aは金属元素である。 - 特許庁
A semiconductor device is a group-III nitride semiconductor heterojunction field effect transistor, having a heterojunction formed on a channel layer 2 of Al_xIn_yGa_1-x-yN (0≤x<1, 0≤y<1) as an electron supply layer 3 of Al_zGa_1-zN (Al composition z satisfies 0≤z≤1).例文帳に追加
半導体装置は、Al_xIn_yGa_1-x-yN(0≦x<1, 0≦y<1)のチャネル層2上に、Al_zGa_1-zN(Al組成zは0≦z≦1)の電子供給層3から成るヘテロ接合を形成したIII族窒化物半導体ヘテロ接合電界効果型トランジスタである。 - 特許庁
This fluorescent substance is expressed by general formula La_1-xSi_3N_5:xCe (x is a amount of activation, 0; x; 1), a part of the lanthanum ion is activated by substituting and forming a solid solution of the cerium ion.例文帳に追加
一般式La_1-xSi_3N_5:xCe(付活量xは、0<x<1)で示され、ランタンイオンサイトに固溶置換によりセリウムイオンが付活している。 - 特許庁
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